[发明专利]显示基板及制作方法、显示装置

说明书

技术领域

本发明涉及显示技术领域，尤其是涉及一种显示基板及制作方法、显示装置。

背景技术

目前，相比于传统的摩擦(Rubbing)取向技术，光取向技术在静电及Mura不良等方面具有极大优势。

现有的光取向技术一般采用UV(紫外线)聚合或UV降解的技术，当然，也可以使用其它与紫外线具有相同特性的光线进行光取向。以下以UV降解技术为例，图1是根据现有技术的UV降解TFT侧的PI(Polyimide，聚酰亚胺)层进行光取向的示意图，如图1所示，在使用UV11对TFT(薄膜晶体管)侧的PI12进行降解以完成进行取向的过程中，光取向的方向与UV11的偏振方向是垂直的，透过PI12层的UV11会在基板各层之间发生反射，反射后UV11光的偏振状态及方向均发生变化，影响了光取向的效果，导致微观范围内取向紊乱、锚定效果下降现象的发生。此外，在UV取向过程中，TFT直接受到UV照射，这对TFT性能的稳定性和信赖性产生不良影响。

但是，针对上述技术问题，现有技术并没有给出一种有效的解决方案。

发明内容

本发明的主要目的在于提供一种能够防止反射的UV重复取向而导致微观范围内取向紊乱，锚定效果下降的现象发生，且可以进一步地避免UV照射TFT导致TFT性能变差及信赖性下降的技术方案。

为了达到上述目的，本发明提供了一种显示基板，包括衬底基板以及设置在所述衬底基板上的取向层，所述取向层形成过程中采用预定光线照射取向，该显示基板还包括：设置在所述衬底基板与所述取向层之间的保护层，所述保护层能够吸收所述预定光线或者将所述预定光线转化为无法对所述取向层的取向材料进行取向的光线。

优选地，所述显示基板还包括位于所述衬底基板和所述保护层之间的平坦层。

优选地，所述保护层为掺杂有光吸收材料的平坦层，所述光吸收材料能够吸收所述预定光线。

优选地，所述保护层为掺杂有光转化材料的平坦层，所述光转化材料能够将所述预定光线转换为无法对所述取向层的取向材料进行取向的光线。

优选地，所述显示基板为阵列基板或者彩膜基板，其中，当所述显示基板为阵列基板时，所述阵列基板还包括位于所述衬底基板和所述保护层之间的薄膜晶体管。

优选地，所述预定光线为紫外光。

本发明还提供了一种显示装置，该显示装置包括上述显示基板。

本发明还提供了一种显示基板的制作方法，包括：在衬底基板上形成能够吸收预定光线或者将所述预定光线转化为无法对取向层的取向材料进行取向的光线的保护层；在所述保护层上形成取向材料薄膜，并采用所述预定光线对所述取向材料薄膜进行照射最终形成所述取向层。

优选地，在形成所述保护层之前，还包括：形成平坦层。

优选地，形成所述保护层包括：形成掺杂有光吸收材料或光转化材料的平坦层，其中，所述光吸收材料能够吸收所述预定光线，所述光转化材料能够将所述预定光线转换为无法对所述取向层的取向材料进行取向的光线。

与现有技术相比，本发明所述的显示基板及制作方法、显示装置，通过在阵列基板和/或CF基板上设置紫外光吸收层或者紫外光转化层吸收或转化透过取向层的UV，可以防止反射的UV重复取向而导致微观范围内取向紊乱，锚定效果下降的现象发生，而且能够地避免UV照射TFT导致TFT性能变差以及信赖性下降。

附图说明

图1是根据现有技术的UV降解TFT侧的PI层进行光取向的示意图；

图2是根据本发明实施例的在阵列基板上形成紫外光吸收层的结构示意图；

图3是根据本发明实施例的在彩膜基板上形成紫外光吸收层的结构示意图；

图4是根据本发明实施例的在阵列基板上形成含有紫外光转化层的结构示意图；

图5是根据本发明实施例的在彩膜基板上形成含有紫外光转化层的结构示意图；

图6A是根据本发明实施例的在彩膜基板上形成含有紫外光吸收材料的OC层的结构示意图；

图6B是根据本发明实施例的在彩膜基板上形成含有紫外光转化材料的OC层的结构示意图；以及

图7是根据本发明实施例的显示基板的制作方法流程图。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域的普通技术人员在没有做出创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。