[发明专利]一种表面刻蚀的碳化硅纳米晶须复合物在审
申请号: | 201510226048.9 | 申请日: | 2015-05-06 |
公开(公告)号: | CN104790040A | 公开(公告)日: | 2015-07-22 |
发明(设计)人: | 查尔斯·罗伯特·克莱恩;罗振林;成民主 | 申请(专利权)人: | 武汉森源驰新科技发展有限公司 |
主分类号: | C30B29/36 | 分类号: | C30B29/36;C30B29/62;B82Y30/00 |
代理公司: | 北京华沛德权律师事务所 11302 | 代理人: | 刘杰 |
地址: | 430000 湖北省*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 表面 刻蚀 碳化硅 纳米 复合物 | ||
1.一种表面刻蚀的碳化硅纳米晶须复合物,其特征在于,包括:
质量百分比含量为97.5%~99.45%的碳化硅斜方晶须,所述碳化硅斜方晶须的长度为0.5μm-0.7μm且表面经过湿法刻蚀处理;
质量百分比含量为0.01%~0.05%的氧化铝斜方晶须,所述氧化铝斜方晶须的长度为0.7μm内且表面经过刻蚀处理;
表面经过Na2SiF6处理且质量百分比为0.01%-0.015%的高岭土;
其中,所述碳化硅斜方晶须、所述氧化铝斜方晶须、所述高岭土一并复合成所述碳化硅纳米晶须复合物,在所述碳化硅纳米晶须复合物中,所述碳化硅斜方晶须处于物理上的分离状态。
2.如权利要求1所述的表面刻蚀的碳化硅纳米晶须复合物,其特征在于,所述氧化铝斜方晶须的长度为:0.35μm-0.4μm。
3.如权利要求1所述的表面刻蚀的碳化硅纳米晶须复合物,其特征在于,所述高岭土的纯度为99.99%。
4.如权利要求1所述的表面刻蚀的碳化硅纳米晶须复合物,其特征在于,所述碳化硅斜方晶须包括β碳化硅。
5.如权利要求1所述的表面刻蚀的碳化硅纳米晶须复合物,其特征在于,表面刻蚀的碳化硅纳米晶须复合物的制备方法为:
利用湿法刻蚀来制备所述氧化铝斜方晶须;
粉碎所述氧化铝斜方晶须至0.35μm-0.4μm的尺寸,并通过湿法刻蚀改变所述氧化铝斜方晶须的所有表面;
将干燥的高岭土与Na2SiF6混合;
制备所述碳化硅斜方晶须;
将0.01%~0.05%的氧化铝斜方晶须掺杂到质量百分比为97.5%~99.45%的碳化硅斜方晶须中;
混合氟化材料和掺入Na2SiF6的干燥的高岭土,获得混合材料;
加热碳化硅斜方晶须、氧化铝斜方晶须、混合材料,以产生所述碳化硅纳米晶须复合物。
6.如权利要求5所述的表面刻蚀的碳化硅纳米晶须复合物,其特征在于,所述氟化材料包括:四氟乙烯或聚四氟乙烯。
7.如权利要求1所述的表面刻蚀的碳化硅纳米晶须复合物,其特征在于,所述加热碳化硅斜方晶须、氧化铝斜方晶须、混合材料,具体为:
在800-850℃的温度范围处理所述碳化硅斜方晶须、所述氧化铝斜方晶须、所述混合材料。
8.一种复合泡沫塑料,其特征在于,包括如上述权利要求1-7任一权项的表面刻蚀的碳化硅纳米晶须复合物。
9.如权利要求8所述的复合泡沫塑料,其特征在于,所述复合泡沫塑料由以下步骤制备:
将所述碳化硅纳米晶须复合物与大量微球体混合,获得混合物,所述碳化硅纳米晶须复合物所占质量百分比为7.5%-15%;
将所述混合物同树脂基泡沫塑料复合材料混合,获得所述复合泡沫塑料。
10.一种涂料,其特征在于,包括如上述权利要求8所述的复合泡沫塑料。
11.一种绝缘材料,其特征在于,包括如上述权利要求8所述的复合泡沫塑料。
12.一种制造电子元件,其特征在于,包括如上述权利要求1-7任一权项的表面刻蚀的碳化硅纳米晶须复合物。
13.一种机电设备,其特征在于,包括如上述权利要求1-7任一权项的表面刻蚀的碳化硅纳米晶须复合物。
14.一种陶瓷复合材料,其特征在于,包括如上述权利要求1-7任一权项的表面刻蚀的碳化硅纳米晶须复合物。
15.一种机械器件,其特征在于,包括如上述权利要求1-7任一权项的表面刻蚀的碳化硅纳米晶须复合物。
16.一种医疗器械,其特征在于,包括如上述权利要求1-7任一权项的表面刻蚀的碳化硅纳米晶须复合物。
17.一种的添加剂,添加于氢化丁腈橡胶、浇铸聚氨酯、乙烯酯、玻璃纤维材料和热塑性聚氨酯弹性体中,其特征在于,包括如上述权利要求1-7任一权项的表面刻蚀的碳化硅纳米晶须复合物。
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