[发明专利]一种表面刻蚀的碳化硅纳米晶须复合物在审

专利信息
申请号: 201510226048.9 申请日: 2015-05-06
公开(公告)号: CN104790040A 公开(公告)日: 2015-07-22
发明(设计)人: 查尔斯·罗伯特·克莱恩;罗振林;成民主 申请(专利权)人: 武汉森源驰新科技发展有限公司
主分类号: C30B29/36 分类号: C30B29/36;C30B29/62;B82Y30/00
代理公司: 北京华沛德权律师事务所 11302 代理人: 刘杰
地址: 430000 湖北省*** 国省代码: 湖北;42
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摘要:
搜索关键词: 一种 表面 刻蚀 碳化硅 纳米 复合物
【权利要求书】:

1.一种表面刻蚀的碳化硅纳米晶须复合物,其特征在于,包括:

质量百分比含量为97.5%~99.45%的碳化硅斜方晶须,所述碳化硅斜方晶须的长度为0.5μm-0.7μm且表面经过湿法刻蚀处理;

质量百分比含量为0.01%~0.05%的氧化铝斜方晶须,所述氧化铝斜方晶须的长度为0.7μm内且表面经过刻蚀处理;

表面经过Na2SiF6处理且质量百分比为0.01%-0.015%的高岭土;

其中,所述碳化硅斜方晶须、所述氧化铝斜方晶须、所述高岭土一并复合成所述碳化硅纳米晶须复合物,在所述碳化硅纳米晶须复合物中,所述碳化硅斜方晶须处于物理上的分离状态。

2.如权利要求1所述的表面刻蚀的碳化硅纳米晶须复合物,其特征在于,所述氧化铝斜方晶须的长度为:0.35μm-0.4μm。

3.如权利要求1所述的表面刻蚀的碳化硅纳米晶须复合物,其特征在于,所述高岭土的纯度为99.99%。

4.如权利要求1所述的表面刻蚀的碳化硅纳米晶须复合物,其特征在于,所述碳化硅斜方晶须包括β碳化硅。

5.如权利要求1所述的表面刻蚀的碳化硅纳米晶须复合物,其特征在于,表面刻蚀的碳化硅纳米晶须复合物的制备方法为:

利用湿法刻蚀来制备所述氧化铝斜方晶须;

粉碎所述氧化铝斜方晶须至0.35μm-0.4μm的尺寸,并通过湿法刻蚀改变所述氧化铝斜方晶须的所有表面;

将干燥的高岭土与Na2SiF6混合;

制备所述碳化硅斜方晶须;

将0.01%~0.05%的氧化铝斜方晶须掺杂到质量百分比为97.5%~99.45%的碳化硅斜方晶须中;

混合氟化材料和掺入Na2SiF6的干燥的高岭土,获得混合材料;

加热碳化硅斜方晶须、氧化铝斜方晶须、混合材料,以产生所述碳化硅纳米晶须复合物。

6.如权利要求5所述的表面刻蚀的碳化硅纳米晶须复合物,其特征在于,所述氟化材料包括:四氟乙烯或聚四氟乙烯。

7.如权利要求1所述的表面刻蚀的碳化硅纳米晶须复合物,其特征在于,所述加热碳化硅斜方晶须、氧化铝斜方晶须、混合材料,具体为:

在800-850℃的温度范围处理所述碳化硅斜方晶须、所述氧化铝斜方晶须、所述混合材料。

8.一种复合泡沫塑料,其特征在于,包括如上述权利要求1-7任一权项的表面刻蚀的碳化硅纳米晶须复合物。

9.如权利要求8所述的复合泡沫塑料,其特征在于,所述复合泡沫塑料由以下步骤制备:

将所述碳化硅纳米晶须复合物与大量微球体混合,获得混合物,所述碳化硅纳米晶须复合物所占质量百分比为7.5%-15%;

将所述混合物同树脂基泡沫塑料复合材料混合,获得所述复合泡沫塑料。

10.一种涂料,其特征在于,包括如上述权利要求8所述的复合泡沫塑料。

11.一种绝缘材料,其特征在于,包括如上述权利要求8所述的复合泡沫塑料。

12.一种制造电子元件,其特征在于,包括如上述权利要求1-7任一权项的表面刻蚀的碳化硅纳米晶须复合物。

13.一种机电设备,其特征在于,包括如上述权利要求1-7任一权项的表面刻蚀的碳化硅纳米晶须复合物。

14.一种陶瓷复合材料,其特征在于,包括如上述权利要求1-7任一权项的表面刻蚀的碳化硅纳米晶须复合物。

15.一种机械器件,其特征在于,包括如上述权利要求1-7任一权项的表面刻蚀的碳化硅纳米晶须复合物。

16.一种医疗器械,其特征在于,包括如上述权利要求1-7任一权项的表面刻蚀的碳化硅纳米晶须复合物。

17.一种的添加剂,添加于氢化丁腈橡胶、浇铸聚氨酯、乙烯酯、玻璃纤维材料和热塑性聚氨酯弹性体中,其特征在于,包括如上述权利要求1-7任一权项的表面刻蚀的碳化硅纳米晶须复合物。

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