[发明专利]一种MEMS惯性传感器及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201510227168.0 申请日: 2015-05-06
公开(公告)号: CN104819730B 公开(公告)日: 2017-12-05
发明(设计)人: 郑国光 申请(专利权)人: 歌尔股份有限公司
主分类号: G01C25/00 分类号: G01C25/00
代理公司: 北京博雅睿泉专利代理事务所(特殊普通合伙)11442 代理人: 马佑平,王昭智
地址: 261031 山东省*** 国省代码: 山东;37
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摘要:
搜索关键词: 一种 mems 惯性 传感器 及其 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种MEMS惯性传感器,其特征在于:包括衬底(1),以及分别固定在衬底(1)上端、下端的盖体(2),两个盖体(2)与衬底(1)分别形成位于衬底(1)两侧的第一容腔、第二容腔;在所述衬底(1)的上端通过中间结合层(4)设有位于第一容腔内的第一敏感结构(3),在所述衬底(1)的下端通过中间结合层(4)设有位于第二容腔内的第二敏感结构(6),所述第一敏感结构(3)包括第一弹性梁,以及位于第一弹性梁两侧的可动极板C1-1(30)、可动极板C1-2(31),所述第二敏感结构(6)包括第二弹性梁,以及位于第二弹性梁两侧的可动极板C2-1(60)、可动极板C2-2(61);所述衬底(1)的上端设有与可动极板C1-1(30)构成C1电容结构的固定极板C3-1(80),以及与可动极板C1-2(31)构成C2电容结构的固定极板C3-2(81);所述衬底(1)的下端设有与可动极板C2-1(60)构成C3电容结构的固定极板C4-1(82),以及与可动极板C2-2(61)构成C4电容结构的固定极板C4-2(83)。

2.根据权利要求1所述的MEMS惯性传感器,其特征在于:其中在所述衬底(1)上设有金属化通孔,所述第一敏感结构(3)和第二敏感结构(6)通过穿过金属化通孔的导电材料(5)或连通导电材料(5)的引线(9)连接。

3.根据权利要求1所述的MEMS惯性传感器,其特征在于:所述第一敏感结构(3)、第二敏感结构(6)为平动结构,其中,C1电容结构与C3电容结构形成叠加电容C13;C2电容结构与C4电容结构形成叠加电容C24,叠加电容C13与C24构成差分电容结构。

4.根据权利要求1所述的MEMS惯性传感器,其特征在于:所述第一敏感结构(3)、第二敏感结构(6)为偏转结构,其中,所述第一敏感结构(3)重心偏移的方向与第二敏感结构(6)重心偏移的方向相反;C1电容结构与C3电容结构形成叠加电容C13;C2电容结构与C4电容结构形成叠加电容C24,叠加电容C13与C24构成差分电容结构。

5.根据权利要求1所述的MEMS惯性传感器,其特征在于:所述第一敏感结构(3)、第二敏感结构(6)为偏转结构,其中,所述第一敏感结构(3)重心偏移的方向与第二敏感结构(6)重心偏移的方向相同;C1电容结构与C4电容结构形成叠加电容C14;C2电容结构与C3电容结构形成叠加电容C23,叠加电容C14与C23构成差分电容结构。

6.根据权利要求1所述的MEMS惯性传感器,其特征在于:所述第一敏感结构(3)为加速度计结构,所述第二敏感结构(6)为陀螺仪结构;或者所述第一敏感结构(3)为陀螺仪结构,所述第二敏感结构(6)为加速度计结构。

7.根据权利要求1所述的MEMS惯性传感器,其特征在于:所述衬底(1)上还设有贯通第一容腔和第二容腔的气压导通孔。

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