[发明专利]用于建筑玻璃的节能防爆膜有效

专利信息
申请号: 201510230304.1 申请日: 2012-12-18
公开(公告)号: CN104859224A 公开(公告)日: 2015-08-26
发明(设计)人: 金闯;杨晓明 申请(专利权)人: 苏州斯迪克新材料科技股份有限公司
主分类号: B32B15/09 分类号: B32B15/09
代理公司: 苏州创元专利商标事务所有限公司 32103 代理人: 马明渡;王健
地址: 215400 江苏省苏州*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 用于 建筑 玻璃 节能 防爆膜
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种用于建筑玻璃的节能防爆膜,属于胶粘材料技术领域。

背景技术

目前建筑物和一般场所使用的玻璃以及汽车车身上使用的玻璃一般都是单纯的玻璃,单纯的玻璃虽然具有透光度好,便于观察外界情况和便于驾驶员观察道路交通情况以及车内乘坐人员观察车外的情况,一方面,但玻璃外面的太阳光和其它光线往往会影响玻璃内面人员和汽车驾驶员的眼睛和视觉;另一方面,玻璃外面的阳光会透过玻璃晒热玻璃内面和汽车内部,使玻璃内面和汽车内部温度增高,更为严重的是当发生意外而导致玻璃破碎时,破碎的玻璃飞散会伤害周边人员,因此,玻璃后面和汽车内往往安装布帘,以遮挡阳光和隔热,目前则采用粘贴塑料薄膜的方法,但是在隔热性能上本领域技术人员未能给予足够的重视。 因此,如何提高隔热效率,又能保证很高的可见光的透过率,以达到既节能又高透明是本领域技术人员努力的方向。同时,在柔性基材(塑料薄膜)磁控溅射生产高透明高隔热的防爆膜也是本领域技术人员努力的方向。

发明内容

本发明目的是提供一种用于建筑玻璃的节能防爆膜,该用于建筑玻璃的节能防爆膜既有利于将反射和阻隔太阳光线中的红外线,隔热效果显著,又能更好的保护磁控溅射金属层,防止金属氧化,提高和保证了产品的性能和使用寿命,从而可适用于要求更高的场所。

为达到上述目的,本发明采用的技术方案是:一种用于建筑玻璃的节能防爆膜,包括一热稳定性聚酯薄膜层,此热稳定性聚酯薄膜层一表面磁控溅射有第一金属铟层,此第一金属铟层另一表面磁控溅射有作为隔热层的金属银层或金属铝层,此金属银层或金属铝层另一表面磁控溅射有第二金属铟层;所述热稳定性聚酯薄膜层和第一金属铟层之间涂覆有丙烯酸乳液层;所述热稳定性聚酯薄膜层厚度为15~70μm;

所述节能防爆膜通过以下工艺获得:

步骤一、制备一聚酯薄膜,厚度为15~70μm,所述聚酯薄膜为热稳定性聚酯薄膜;

步骤二、在步骤一的热稳定性聚酯薄膜上磁控溅射沉积作为防氧化保护的第一金属铟层,工艺条件为:采用纯度为99.99%的铟的靶材,溅射气体为99.999%的高纯氩气,腔体内部的真空度为6.1×10-4Pa,工作压力设为0.7 Pa,靶材距离固定在75 mm,氩气的流量为22sccm,铟的溅射功率是40 W,溅射速率分别4.0nm/min,第一金属铟层厚度为2nm~15nm;

步骤三、在第一金属铟层另一表面磁控溅射沉积一隔热层,此隔热层金属银层,工艺条件为:纯度为99.99%银的靶材,溅射气体为99.999%高纯氩气,腔体内部的真空度为6.1×10-4Pa,工作压力设为0.7 Pa,靶材距离固定在75mm,氩气的流量为22sccm,银靶材溅射功率是40W,溅射速率为 6.4 nm/min,所述隔热层厚度为10~50nm;

步骤四、然后在步骤三的隔热层另一表面磁控溅射沉积第二金属铟层,工艺条件为:铟靶材纯度为99.99%,溅射气体为99.999%的高纯氩气,腔体内部的真空度为6. 1×10-4Pa,工作压力设为0.7 Pa,靶材距离固定在75mm,氩气的流量为22sccm,铟的溅射功率都是40 W,溅射速率分别4.0nm/min,所述第二金属铟层厚度为5~20nm。

上述技术方案中进一步改进的方案如下:

1、上述方案中,所述第一金属铟层厚度为2~15nm,所述第二金属铟层5~20nm。

2、上述方案中,所述金属银层或金属铝层厚度为10~50nm。

由于上述技术方案运用,本发明与现有技术相比具有下列优点和效果:

1、本发明用于建筑玻璃的节能防爆膜,其基材层一表面磁控溅射有第一金属铟层,此金属铟层另一表面磁控溅射有作为隔热层的金属银层或金属铝层,此金属银层或金属铝层另一表面磁控溅射有第二金属铟层,所述第一金属铟层厚度为2~15nm,所述金属银层或金属铝层厚度为8~55nm,所述第二金属铟层5~20nm,既有利于将磁控溅射金属层可以反射和阻隔太阳光线中的红外线,隔热效果显著,又能更好的保护磁控溅射金属层,防止金属氧化,提高和保证了产品的性能和使用寿命,从而可适用于要求更高的场所。

2、本发明用于建筑玻璃的节能防爆膜,其塑料基膜在150~160℃下进行预热收缩处理,提高了塑料基膜的分子取向,同时,提高塑料基膜结晶度和完善晶格结构,从而提高了塑料基膜热稳定性,具体数据,普通塑料基膜的热收缩一般是1~3%,避免了塑料基膜在磁控溅射时热收缩和变形,大大提高了产品的。

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