[发明专利]粘结膜用剥离膜、以及使用该粘结膜用剥离膜的粘结膜

说明书

本发明提供用于形成对被粘附体的污染少的粘结膜的粘结膜用剥离膜，进而，提供用于形成具有优异的防剥离静电性能的粘结膜的粘结膜用剥离膜、以及使用该粘结膜用剥离膜的粘结膜。本发明的粘结膜用剥离膜(5)能够保护至少在基材膜(1)的单面层叠有粘结剂层(2)的粘结膜的该粘结剂层(2)，并且能够剥离，其中，至少在树脂膜(3)的单面层叠剥离剂层(4)而成，并通过该剥离剂层(4)贴合在粘结剂层(2)的表面上，上述剥离剂层(4)含有以二甲基聚硅氧烷作为主要成分的剥离剂和20℃温度下是液体的硅类化合物。

本申请是申请日为2013年5月16日、申请号为201310181917.1、发明名称为“粘结膜用剥离膜、以及使用该粘结膜用剥离膜的粘结膜”的申请的分案申请。

技术领域

本发明涉及一种贴合在粘结膜的粘结剂层表面的粘结膜用剥离膜。更详细而言，本发明提供用于实现对被粘附体的污染少的粘结膜的粘结膜用剥离膜，进而，提供用于实现具有优异的防剥离静电性能的粘结膜的粘结膜用剥离膜。

背景技术

一直以来，在用于保护粘结剂层表面的保护膜等各种用途中，使用剥离膜(也称为“脱模膜”)。作为剥离膜的通常用途，例如，将剥离膜贴合在基材的单面形成有粘结剂层的粘结膜上、或者贴合在无基材的粘结剂层上，以保护粘结剂层。在粘结剂层上贴合了剥离膜的粘结膜，以这种贴合状态直接进行保管，从而防止粘结剂层受污染而粘结力下降的现象。

另外，对粘结剂层上贴合了剥离膜的粘结膜而言，使用该粘结膜时，可以剥掉剥离膜使粘结剂层暴露后，贴合在其他基材等上。从粘结膜剥掉的剥离膜，则进行废弃处理。

另外，在基材的单面形成有粘结剂层的粘结膜中，在基材的一个面涂布剥离剂以使其具有剥离功能，在基材的另一个面涂布粘结剂并使其干燥，从而形成粘结剂层之后，根据需要，也可以卷绕成卷儿，以节省剥离膜。

另外，在以触控面板、显示器为代表的光学膜等采用树脂膜层叠体的技术领域中，在贴合树脂膜时，使用各种粘结剂。具体而言，如通过粘结剂层将偏光板固定在液晶面板上；通过粘结剂层贴合多个光学膜；使用玻璃、树脂板等粘结剂层贴合光学膜等。并且，不仅在恒久地粘接光学部件的用途，而且在光学部件临时表面保护用途、光学部件的制造工序中的载体用途等的再剥离用途中，粘结剂也用于保护膜、载体膜等的贴合中。

在这种使用粘结剂的技术领域中，作为粘结剂层的保护用途，使用剥离膜。通常的剥离膜中，在基材的至少单面上，涂布剥离剂等而形成剥离剂层。作为剥离膜所要求的性能，必须具有适度的剥离性能、且即使贴合在粘结剂层上，也不会降低粘结力。在作为剥离剂使用有机硅等的剥离膜中，当贴合于粘结剂层上时，有机硅转移至粘结剂层的表面，致使粘结力下降。关于减少有机硅转移的剥离膜，提出了多个方案。

例如，在专利文献1和专利文献2中，提出了通过限定有机硅的组成来减少有机硅的转移的剥离膜。另外，在专利文献3中，提出了通过设置底涂层来减少有机硅的转移的剥离膜。进而，在专利文献4中，提出了将聚酯膜的未处理面与剥离膜的剥离处理面贴合后在规定条件下进行处理，并限定处理后的聚酯膜表面的有机硅量的剥离膜。

由专利文献1至专利文献4记载的内容明确可知，在现有技术中，以如何减少剥离剂的成分从剥离膜向贴合面转移为课题，提出了多种减少剥离剂的成分向贴合面转移的方案。

另一方面，在光学产品的制造工序中，作为用于防止损伤、污垢附着的表面保护膜，通常使用在基材膜的单面设置了粘结剂层的粘结膜。这种表面保护用粘结膜，是通过具有微粘结力的粘结剂层贴合在光学用膜上。之所以使用具有微粘结力的粘结剂层，是因为当将已经用完的表面保护膜从光学用膜的表面剥离并去除时，能够容易地进行剥离，且能够防止粘结剂附着并残留在作为被粘附体的光学用膜产品(所谓的防止残胶的产生)。