[发明专利]一种具备自清洁功能的溶气气浮污水处理装置有效

专利信息
申请号: 201510232053.0 申请日: 2015-05-10
公开(公告)号: CN104829007A 公开(公告)日: 2015-08-12
发明(设计)人: 陈敏感 申请(专利权)人: 浙江美纳环保科技有限公司
主分类号: C02F9/04 分类号: C02F9/04;C02F1/24
代理公司: 北京科亿知识产权代理事务所(普通合伙) 11350 代理人: 汤东凤
地址: 317000 浙*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 一种 具备 清洁 功能 溶气气浮 污水处理 装置
【说明书】:

技术领域

发明属于工业污水处理装置技术领域,具体涉及一种具备自清洁功能的溶气气浮污水处理装置。

背景技术

溶气气浮技术是工业污水处理的传统工艺技术,该技术广泛应用于污水脱色、重金属离子去除、悬浮物去除和COD降解等污水处理工程,由于该工艺具有简便易行、污水处理效率高、占地面积相对较小等一系列优点而被污水处理行业广泛采用。但由于气浮装置尤其是平流式气浮装置,其浮渣总有没刮干净的时候,针对间歇式运行的气浮装置,在装置停止作业的间歇中,水面上残存的浮渣将随着气泡的破灭而沉入浮渣分离区底部,当下一次开机时,下沉的浮渣随着水流的波动而被浮渣分离区底部的穿孔集水管吸入并排入清水区,造成出水带泥。这种现象在小水量气浮装置上表现的尤为突出,直接影响出水水质和达标排放效果。

针对上述现象,目前通常的做法是,第一,在浮渣分离区底部设置锥形泥斗并定期排掉残留的泥渣;第二,在关闭污水进水管后延时关闭容器泵和刮渣装置,最大限度刮除表面的浮渣;第三,当出水带泥时,停机排空分离区和清水区存水,重新加注洁净的自来水。

显然,前述第一种方法效果较好,但增加了设备的复杂性和成本;第二种方法只是相对延长了有效运行时间,并没有彻底解决问题;第三种方法虽然彻底但不可控,并浪费了水源,增加了运行成本。

发明内容

针对现有技术中存在的问题,本发明目的在于提供一种具备自清洁功能的溶气气浮污水处理装置,尤其用于解决目前社会上大量存在的小微企业的生产工艺污水处理问题,使得小型化微型化气浮装置工业化应用成为现实。

一种具备自清洁功能的溶气气浮污水处理装置,包括底架、混凝反应区、依次设置在底架上的溶气泵、气液分离罐、接触反应区、浮渣分离区、刮渣装置、清水区,混凝反应区配合设置搅拌装置和污水进水管,接触反应区与浮渣分离区、混凝反应区相通,清水区设有清水出水管;所述溶气泵通过进水管、回流管、溶气水出水管、进气管分别与清水区、气液分离罐以及大气相连,气液分离罐上设置有自动排气阀,回流管上设置有回流电磁阀,回流电磁阀与气液分离罐之间设置有压力表;所述气液分离罐通过溶气水电磁阀、溶气水释放器与接触反应区相连,其特征在于所述气液分离罐通过清洗电磁阀、清洗释放器与浮渣分离区相连,所述清洗释放器由均布于浮渣分离区底部的释放管组成,释放管的下方两侧间隔设置有小孔,清洗释放器通过清洗电磁阀与气液分离罐相连,清洗释放器上方设置有穿孔集水管,穿孔集水管通过清水电磁阀与清水区相连。

所述的具备自清洁功能的溶气气浮污水处理装置,其特征在于清洗释放器位于浮渣分离区底部附近,并与底部相距30-50cm。

所述的具备自清洁功能的溶气气浮污水处理装置,其特征在于所述溶气水释放器设置在接触反应区底部,溶气水释放器上方设有混凝出水管,接触反应区底部通过混凝出水管与混凝反应区底部连通。

所述的具备自清洁功能的溶气气浮污水处理装置,其特征在于底架上或底架外部设置至少一个混凝反应区,且内部设置搅拌装置,同时在混凝反应区的适当部位设置污水进水管。

所述的具备自清洁功能的溶气气浮污水处理装置,其特征在于浮渣分离区与接触反应区下部通过导流板隔开,上部相通,所述相通上部配合设置刮渣装置。

所述的一种具备自清洁功能的溶气气浮污水处理装置,其特征在于顺着刮渣装置的运动方向,设置有浮渣收集区,浮渣收集区内设置有浮渣排放口。

所述的一种具备自清洁功能的溶气气浮污水处理装置,其特征在于清水区的上部设置有清水出水管,清水出水管上装有节流阀。

所述的一种具备自清洁功能的溶气气浮污水处理装置,其特征在于清洗释放器为方框型或H型。

与现有技术相比,本发明具有以下有益效果:

1)本发明通过在气浮装置的浮渣分离区底部设置清洗释放器,并借助清水电磁阀、回流电磁阀、溶气水电磁阀、清洗电磁阀和自动控制技术,实现了气浮装置的残留浮渣沉降后的自动清除,确保了气浮装置尤其是小型化微型化气浮装置出水水质稳定达标。

2)本发明结构简单,设计合理,运行可靠,占地面积小,经济适用,实现了小型化微型化气浮装置的商业化推广,为小微企业的生产污水治理提供了一套经济实用的可靠途径。

附图说明

图1为本发明的结构示意图;

图2为本发明中清洗释放器的结构示意图;

图3为本发明中清洗释放器的另一种结构示意图;

图4为本发明中清洗释放器的剖面结构示意图;

图5为本发明未装混凝反应区结构示意图;

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