[发明专利]阵列基板及其制造方法、显示面板和显示装置

权利要求书

1.一种阵列基板，其特征在于，包括：

基板，包括一显示区域和非显示区域；

平坦化层，形成在所述基板上，所述平坦化层在非显示区域设有一凹槽，所述凹槽用于容置控制单元；

导电走线，形成在所述平坦化层上，从所述显示区域延伸至所述非显示区域的凹槽；

第一绝缘层，覆盖在所述导电走线上；

遮罩层，设置在所述第一绝缘层上，且至少遮盖非显示区域的导电走线；

所述第一绝缘层和所述遮罩层上还覆盖有第二绝缘层；

所述第二绝缘层上形成有像素电极，所述像素电极通过贯穿于所述第一绝缘层和第二绝缘层中的过孔与晶体管开关的漏极电连接；

其中，所述遮罩层采用导电材料制成。

2.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于：

所述第一绝缘层上设置有电极图案，

所述遮罩层与所述电极图案采用相同材料同层形成。

3.根据权利要求2所述的阵列基板，其特征在于：

所述导电走线为触控电极走线；

所述电极图案为触控电极；

所述电极图案上覆盖有所述第二绝缘层。

4.根据权利要求3所述的阵列基板，其特征在于：所述控制单元为集成电路芯片或柔性印刷电路板。

5.一种触控显示面板，其特征在于，包括权利要求1-4任一所述的阵列基板。

6.一种触控显示装置，其特征在于，包括权利要求5所述的触控显示面板。

7.一种阵列基板的制造方法，其特征在于，包括：

在基板上形成数据线、扫描线和晶体管开关的图案，所述晶体管开关包括栅极、源极、漏极和有源层；

在基板的显示区域和非显示区域上形成平坦化层，并采用构图工艺在所述平坦化层的非显示区域刻蚀形成用于容置控制单元的凹槽；

在所述平坦化层和基板上形成导电图层，并采用构图工艺刻蚀形成导电走线的图案，所述导电走线从所述显示区域延伸至所述非显示区域的凹槽；

在所述导电走线上形成第一绝缘层；

在所述第一绝缘层上采用构图工艺形成遮罩层，所述遮罩层至少遮盖非显示区域的导电走线；

在所述遮罩层上形成第二绝缘层；

在所述第二绝缘层和第一绝缘层中采用光刻胶刻蚀工艺刻蚀形成过孔；

在所述第二绝缘层上形成电极材料层，并采用构图工艺刻蚀形成电极图案，所述电极图案通过所述过孔与所述漏极电连接；

其中，所述遮罩层采用导电材料制成。

8.根据权利要求7所述的方法，其特征在于，在所述第一绝缘层上采用构图工艺形成遮罩层包括：

在所述第一绝缘层上形成触控电极材料层，并采用构图工艺刻蚀形成触控电极和遮罩层的图案。

9.根据权利要求8所述的方法，其特征在于：所述导电走线为触控电极走线；所述电极图案为像素电极。