[发明专利]一种制作球面硅微通道板的装置及其制备方法

权利要求书

1.一种制作球面硅微通道板的制作方法，其特征在于：其步骤如下：

(1)将平面硅微通道板激光切割成所需形状大小；

(2)将切割好的平面硅微通道板装载在模具台的台阶孔中；

(3)连同模具台一起进行热氧化，形成球面硅微通道板；氧化采用硅工艺的热氧化工艺，采用干氧-湿氧-干氧的工艺顺序，有效形成较高质量的二氧化硅。

2.根据权利要求1所述的一种制作球面硅微通道板的制作方法，其特征在于：步骤2)中，切割好的平面硅微通道需要进行清洗。

3.根据权利要求1所述的一种制作球面硅微通道板的制备方法，其特征在于：

(1)经过激光切割，获得一定直径的圆片型硅微通道板，其大小由平面硅微通道的大小决定，直径不大于平面硅微通道的最大直径；

(2)将切割好的圆片型硅微通道板在3号液中清洗30分钟，冲洗干净后在1号液中清洗10分钟，再冲洗干净后，在2号液中清洗10分钟；

(3)将清洗干净的小圆片，在热台上烘干，温度可以设置在50℃至90℃之间；

(4)将圆片型硅微通道板放置在模具台的台阶孔内，然后将重压片覆盖在模具台上部；

(5)将模具台连同石英架送入氧化炉中，氧化温度设置为900℃ 至1100℃，进气量控制在1L/min至5L/min，采用干氧-湿氧-干氧的工艺顺序，干氧的时长控制在10min至30min，湿氧的时长可以根据所需要球面硅微通道板的曲率半径来选择，一般不超过3小时；

(6)待氧化完，取出模具台，即可得到球面硅微通道板。

4.权利要求1所述球面硅微通道板制作方法的专用装置，包括切割成圆形的硅微通道板，其特征在于：所述的硅微通道板置于一模具台中，所述的模具台由中心设有与硅微通道板大小匹配的台阶孔，硅微通道板置于台阶孔中；模具台上设置有重压片，所述重压片完全覆盖台阶孔；模具台置于一石英架上；将石英架、模具台、重压片和硅微通道板置于氧化炉管中。

5.根据权利要求1所述的专用装置，其特征在于：所述的台阶孔的横截面为圆形、椭圆、方形或棱形。

6.根据权利要求1所述的专用装置，其特征在于：所述的重压片与模具台大小相同。

7.根据权利要求1所述的专用装置，其特征在于：所述重压片与模具台上表面密闭。

8.根据权利要求3(2)所述的溶剂，1号液为一定配比的H₂O₂和H₂SO₄溶液；2号液位为一定配比的NH₄OH、H₂O₂和H₂O溶液；3号液为一定配比的HCl、H₂O₂和H₂O溶液。