[发明专利]表面处理剂

说明书

技术领域

本发明涉及可使化妆保持性与冲洗性并存的表面处理剂。

背景技术

由于化妆产品、防晒产品等的化妆料1整天被涂布于肌肤，所以寻求化妆保持性的良好度。因此，为了不发生汗、泪等水分引起的脱妆，通过高级脂肪酸、氟化合物、有机硅等疏水性的表面处理剂对化妆料中所包含的粉体进行防水(water-repelling)化处理。

然而，虽然实施了防水化处理的粉体的化妆保持性提高，但由于清洗时变得难以用水洗掉，所以必须使用专用的洁肤剂、反复清洗数次才能洗掉。

若将粉体进行亲水化处理，则冲洗性提高，但是由于亲水性粉体的化妆保持性变差，故而必须频繁地进行补妆。即，难于使需要疏水性的化妆保持性与需要亲水性的冲洗性并存。

专利文献1记载了由有机硅构成的表面处理剂，专利文献2记载了由丙烯酸类及/或其酯的共聚物构成的表面处理剂，专利文献3记载了由烷基氟改性有机硅油构成的表面处理剂。此外，专利文献4记载了由甲基丙烯酰胺十一酸与丙烯酰胺甲磺酸钠构成的耐水性与易冲洗性并存的表面处理剂。

现有技术文献

专利文献

专利文献1日本特开昭60-163973号公报

专利文献2日本特开平8-337514号公报

专利文献3日本特开平08-143423号公报

专利文献4日本专利第4681406号公报

发明内容

本发明在于提供下述表面处理剂，即通过干燥时为疏水性，与水接触时慢慢变为亲水性，从而化妆保持性与冲洗性并存。

用于解决上述课题的方法如下所示。

1.一种表面处理剂，其特征在于，含有下述通式(1)表示的第1嵌段共聚物，

(式(1)中，R₁、R₂各自独立地表示烷基、聚氧化亚烷基、酰基、苯基、芳烷基，X表示不邻接的碳原子可被氧原子取代从而形成醚的碳原子数1～18的烷基链，Y表示单键或2价的连接基团，Z₁表示氢原子或甲基，n、m表示聚合度。)

2.根据1.所述的表面处理剂，其特征在于，所述第1嵌段共聚物的R₁、R₂为碳原子数1～4的烷基或苯基。

3.根据2.所述的表面处理剂，其特征在于，所述第1嵌段共聚物的R₁、R₂同为甲基。

4.一种表面处理剂，其特征在于，含有下述通式(2)表示的第2嵌段共聚物，

(式(2)中，R₃、R₄各自独立地表示氢原子、烷基、苯基、烷氧基，W表示氢原子或甲基，Z₂表示氢原子或甲基，p、q表示聚合度。)

5.根据4.所述的表面处理剂，其特征在于，所述第2嵌段共聚物的R₃、R₄为氢原子、碳原子数1～4的烷基或碳原子数1～4的醚基。

6.根据5.所述的表面处理剂，其特征在于，所述第2嵌段共聚物的R₃、R₄同为氢原子。

7.根据1.～3.中任一项所述的表面处理剂，其特征在于，含有4.～6.中任一项所述的第2嵌段共聚物。

8.根据7.所述的表面处理剂，其特征在于，所述第1嵌段共聚物与所述第2嵌段共聚物的重量比为80：20～20：80。

由于本发明的表面处理剂在干燥环境下显示疏水性、在湿润环境下显示亲水性，所以当用于化妆料中的粉体时，可得到使用中的化妆保持性优异、易于冲洗的化妆料。

附图说明

图1为由第1嵌段共聚物构成的薄膜的表面偏析模型。

图2为由第2嵌段共聚物构成的薄膜的表面偏析模型。

图3为由第1嵌段共聚物与第2嵌段共聚物构成的薄膜的表面偏析模型。

图4为第1嵌段共聚物的¹H-NMR图谱。

图5为表示表面处理膜1的接触角变化的图。

图6为表示表面处理膜2的接触角变化的图。

图7为表示表面处理膜3的接触角变化的图。

图8为表示表面处理膜4的接触角变化的图。

图9为表示在不同条件下形成的表面处理膜的接触角变化的图。

图10为表示表面处理膜7的接触角变化的图。

图11为表示表面处理膜8的接触角变化的图。