[发明专利]等离子体压力显示膜片及其稳态标定系统和测量系统

权利要求书

1.一种等离子体压力显示膜片，其特征在于，该等离子体压力显示膜片为层状结构，包括裸露金属薄膜(101)、绝缘膜片(102)、掩埋金属薄膜(103)和绝缘覆盖薄膜(104)共四层，其中，裸露金属薄膜(101)设置于绝缘膜片(102)的正面，掩埋金属薄膜(103)设置于绝缘膜片(102)的背面，绝缘覆盖薄膜(104)覆盖于绝缘膜片(102)背面的掩埋金属薄膜(103)之上；

其中，所述裸露金属薄膜(101)为空心圆孔阵列，所述掩埋金属薄膜(103)为实心圆点阵列，裸露金属薄膜(101)和掩埋金属薄膜(103)分布在绝缘膜片(102)的两个表面，且上下相对布置。

2.根据权利要求1所述的等离子体压力显示膜片，其特征在于，

所述裸露金属薄膜(101)采用导电金属制成，厚度为5-30微米，通过电镀或者粘贴的方式生成在绝缘膜片(102)的正面；

所述绝缘膜片(102)作为等离子压力显示膜片的基底材料，采用刚性或者柔性材料制成，厚度为微米量级，作为阻挡介质隔开裸露金属薄膜(101)与掩埋金属薄膜(103)；

所述掩埋金属薄膜(103)采用导电金属制成，厚度为5-30微米，通过电镀的或者粘贴方式生成在绝缘膜片(102)的背面；

所述绝缘覆盖薄膜(104)采用喷涂或者粘贴的方式在绝缘膜片(102)的背面生成，采用刚性或柔性材料制成，厚度为30微米；

其中，刚性材料至少为石英、刚玉或陶瓷，柔性材料至少为聚酰亚胺或聚四氟乙烯。

3.根据权利要求1或2所述的等离子体压力显示膜片，其特征在于，裸露金属薄膜(101)、绝缘膜片(102)、掩埋金属薄膜(103)和绝缘覆盖薄膜(104)之间都是紧密结合，不存在任何间隙。

4.根据权利要求1或2所述的等离子体压力显示膜片，其特征在于，所述裸露金属薄膜(101)和掩埋金属薄膜(103)分布在绝缘膜片(102)的两个表面，面积均不超过绝缘膜片(102)；裸露金属薄膜(101)的面积大于掩埋金属薄膜(103)的面积；绝缘覆盖薄膜(104)将掩埋金属薄膜(103)完全覆盖住，同时面积不超过绝缘膜片(102)。

5.根据权利要求1或2所述的等离子体压力显示膜片，其特征在于，所述裸露金属薄膜(101)为线条连接的空心圆孔阵列，线条的宽度为3mm，圆孔的内径为1-2mm，圆孔的外径为8mm。

6.根据权利要求1或2所述的等离子体压力显示膜片，其特征在于，所述掩埋金属薄膜(103)为线条连接的实心圆点阵列，线条的宽度为1mm，圆点的外径为6mm。

7.根据权利要求1或2所述的等离子体压力显示膜片，其特征在于，所述绝缘膜片(102)和掩埋金属薄膜(103)均为连续结构，厚度均匀，不存在任何孔。

8.根据权利要求1所述的等离子体压力显示膜片，其特征在于，所述裸露金属薄膜(101)暴露于待测气流中，绝缘覆盖薄膜(104)与待测表面直接紧密结合。

9.根据权利要求8所述的等离子体压力显示膜片，其特征在于，该等离子体压力显示膜片是通过粘结的方式贴在待测表面上，或者是直接在待测表面上制作该等离子体压力显示膜膜片。