[发明专利]光伏电池硅片清洗剂

说明书

技术领域：

本发明涉及一种清洗剂，特别是一种光伏电池硅片清洗剂。

背景技术：

光伏电池硅片在使用前外观应呈银灰色，不允许存在夹层，发黑，氧化，指纹和沾污的痕或杂质，因此，在高效单晶硅太阳能硅片制备工艺中，要想获得高的光电转化效率，必须要有表面清洁的硅晶片，表面金属污染必须降低到有害值以下。现阶段硅片加工都采用多线切割机，多线切割机采用钢丝带动碳化硅磨料进行切割硅片，会造成硅片表面的有机物沾污、粒沾污以及金属离子沾污，这些杂质的污染特别是金属离子污染物如Cu、Fe、Na等，很容易从硅片表面扩散到内部形成深能级复合中心，从而影响非平衡少子寿命进而降低光电转化效率。所以电池硅片在生产前一定要先清洗，以去除杂质。

光伏电池硅片表面的污染物主要以原子、离子、分子或膜的形式，以物理或化学方法存在于硅片表面或硅片表面的氧化膜中，对硅片的清洗要求是既能去除各类杂质又不破坏硅片性能。目前对硅片清洗多采用水溶液清洗法，是因为水溶液清洗价廉而安全，对杂质和基体选择性好，可将杂质清洗至非常低的水平。

光伏电池硅片清洗技术主要有以下几类，早期常用的是RCA清洗法，但由于RCA清洗使用的试剂成本高，清洗后硅片表面粗糙，且对环境和人体都有一定危害，不适合光伏电池硅片的清洗。部分企业在RCA基础上改良，方法一：稀释或加入表面活性剂、螯合剂等提高对金属和表面颗粒的去除效果；方法二：RCA清洗液结合兆声清洗法和喷射法清洗抛光硅片，实验结果表明该方法对于去除硅片表面的微小颗粒具有更高的效果。目前碱性清洗技术正逐渐取代RCA清洗技术成为光伏电池硅片的主要清洗技术。

发明内容：

针对现有技术存在的上述不足，本发明所要解决的技术问题是提供一种光伏电池硅片清洗剂。

本发明的技术问题，是通过下述技术方案得以实现的：

一种光伏电池硅片清洗剂，由以下重量百分比的原料组成：氢氧化钾0.5～3％、碳酸钠1～3％、硅酸钠2～3％、十二烷基苯磺酸钠3～6％、丁二酸二异辛酯磺酸钠6～9％、四甲基氢氧化铵2～5％、三乙醇胺油酸皂3～6％、余量为去离子水。

一种光伏电池硅片清洗剂，由以下重量百分比的原料组成：氢氧化钾0.5～3％、碳酸钠1～3％、硅酸钠2～3％、络合物0.2～1％、十二烷基苯磺酸钠3～6％、丁二酸二异辛酯磺酸钠6～9％、四甲基氢氧化铵2～5％、三乙醇胺油酸皂3～6％、余量为去离子水。

所述络合物为三聚氰胺磷酸络合物和/或二乙烯三胺五乙酸铁-钠络合物。优选地，络合物为30-70重量份三聚氰胺磷酸络合物和30-70重量份二乙烯三胺五乙酸铁-钠络合物混合而成。

将各原料搅拌混合均匀，即可制得该光伏电池硅片清洗剂。

本发明的光伏电池硅片清洗剂，具有良好的去污、清洗性能，无刺激性气味，能够在硅片表面形成保护膜，抗氧化，使用周期长，能有效去除表面油脂及硅片内部金属杂质和粘附在硅片表面的尘埃和其它颗粒，对硅片腐蚀小。

具体实施方式：

下面实施例是对本发明的进一步说明，而不是限制本发明的范围。在本发明中，如无特别说明，各原料均以有效物含量为100％计。

以下实施例和对比例中，原料介绍：三聚氰胺磷酸络合物，CAS号：41583-09-9。二乙烯三胺五乙酸铁-钠络合物，CAS号：12389-75-2。十二烷基苯磺酸钠，，CAS号：25155-30-0。丁二酸二异辛酯磺酸钠，CAS号：577-11-7。四甲基氢氧化铵，CAS号：75-59-2。三乙醇胺油酸皂，CAS号：10277-04-0。

实施例1-4

按表1对应数据，将各原料混合，加热至50℃，搅拌混合均匀，冷却至室温，即可制得该光伏电池硅片清洗剂。

表1：光伏电池硅片清洗剂配方表  单位：公斤