[发明专利]发光设备在审

专利信息
申请号: 201510243837.3 申请日: 2015-05-13
公开(公告)号: CN105090873A 公开(公告)日: 2015-11-25
发明(设计)人: R·A·M·希克梅特;T·范博梅尔 申请(专利权)人: 皇家飞利浦有限公司
主分类号: F21S10/00 分类号: F21S10/00;F21V8/00;F21W101/02;F21W131/406;F21Y113/00;F21W131/20;F21W131/105
代理公司: 北京市金杜律师事务所 11256 代理人: 王茂华
地址: 荷兰艾恩*** 国省代码: 荷兰;NL
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摘要:
搜索关键词: 发光 设备
【权利要求书】:

1.一种发光设备(1),包括:

至少一个第一光源(21),适于在操作中发射具有第一光谱分布的第一光(13),所述第一光谱分布包括在430nm到480nm范围内的峰值波长,

至少一个第二光源(22),适于在操作中发射具有第二光谱分布的第二光(14),所述第二光谱分布包括在350nm到410nm范围内的峰值波长,以及

光导(4),包括至少一个第一光输入表面(41)、至少一个第二光输入表面(46)以及第一光出射表面(42),所述至少一个第一光输入表面和所述第一光出射表面相对于彼此以不同于零的角度延伸,

所述光导(4)适于在所述至少一个第一光输入表面(41)处接收具有所述第一光谱分布的所述第一光(13),将具有所述第一光谱分布的所述第一光(13)的至少部分转换为具有第三光谱分布的第三光(17),所述第三光谱分布包括在500nm到800nm范围内的峰值波长,将具有所述第三光谱分布的所述第三光(17)引导到所述第一光出射表面(42),并且将具有所述第三光谱分布的所述第三光(17)的至少部分耦合出所述第一光出射表面,

所述光导还适于在所述至少一个第二光输入表面(46)处接收具有所述第二光谱分布的所述第二光(14),将具有所述第二光谱分布的所述第二光(14)引导到所述第一光出射表面(42),并且将具有所述第二光谱分布的所述第二光(14)的至少部分耦合出所述第一光出射表面,

所述发光设备进一步包括布置为邻近于所述第一光出射表面的发光元件(77),所述发光元件适于将具有所述第二光谱分布的所述第二光(14)的至少部分转换为具有第四光谱分布的第四光(18),所述第四光谱分布包括在430nm到500nm范围内的峰值波长。

2.根据权利要求1所述的发光设备,其中所述光导包括至少两个第一光输入表面(41、45),所述至少两个第一光输入表面中的每个第一光输入表面相对于所述第一光出射表面以不同于零的角度延伸,以及

所述光导适于在所述至少两个第一光输入表面(41、45)中的每个第一光输入表面处接收具有所述第一光谱分布的所述第一光(13),将具有所述第一光谱分布的所述第一光(13)的至少部分转换为具有第三光谱分布的第三光(17),所述第三光谱分布包括在500nm到800nm范围内的峰值波长,将具有所述第三光谱分布的所述第三光(17)引导到所述第一光出射表面(42),并且将具有所述第三光谱分布的所述第三光(17)的至少部分耦合出所述第一光出射表面。

3.根据权利要求1或者2所述的发光设备,进一步包括布置在所述第二光输入表面(46)处的耦合元件(7),所述耦合元件适于将具有所述第二光谱分布的所述第二光(14)耦合到所述光导中。

4.根据以上权利要求中的任一项所述的发光设备,进一步包括布置在所述第一光输入表面(41)处的第一光学元件(81),所述第一光学元件适于透射在430nm到480nm波长范围内的光并且反射具有大于480nm波长的光。

5.根据以上权利要求中的任一项所述的发光设备,进一步包括布置在所述第二光输入表面(46)处的第二光学元件(82),所述第二光学元件适于透射在350nm到410nm波长范围内的光并且反射具有大于430nm波长的光。

6.根据以上权利要求中的任一项所述的发光设备,其中所述至少一个第一光源(21)被布置为与所述至少一个第一光输入表面(41)光学接触。

7.根据以上权利要求中的任一项所述的发光设备,其中所述至少一个第二光源(22)被布置为与所述至少一个第二光输入表面(46)光学接触。

8.根据以上权利要求中的任一项所述的发光设备,其中所述发光元件(77)具有在430nm到480nm波长范围内的最大吸光度,在430nm到480nm波长范围内的所述最大吸光度是所述发光元件(77)在350nm到410nm范围内的最大吸光度的10倍、30倍或者50倍高。

9.根据以上权利要求中的任一项所述的发光设备,其中所述光导(4)在350nm到410nm波长范围内具有小于0.2、小于0.15、小于0.1或者小于0.01的吸光度。

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