[发明专利]MOS开关电容电路的芯片集成结构有效
申请号: | 201510246279.6 | 申请日: | 2015-05-15 |
公开(公告)号: | CN104882443B | 公开(公告)日: | 2017-10-31 |
发明(设计)人: | 王建全;彭彪;张干;王作义;崔永明 | 申请(专利权)人: | 四川广义微电子股份有限公司 |
主分类号: | H01L27/02 | 分类号: | H01L27/02 |
代理公司: | 成都行之专利代理事务所(普通合伙)51220 | 代理人: | 罗言刚 |
地址: | 629000 四川省遂宁市经济技术开发区内(*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | mos 开关 电容 电路 芯片 集成 结构 | ||
1.MOS开关电容电路的芯片集成结构,包括A型外延层,其特征在于,还包括位于A型外延层上的第一B型器件和第二B型器件,所述第一B型器件和第二B型器件之间为A型重掺杂区,所述A型重掺杂区的掺杂浓度大于A型外延层的掺杂浓度,所述A型重掺杂区紧邻第一B型器件内侧有源区,所述A型重掺杂区的底部具有向第一B型器件的内侧有源区底部延伸的延伸部;所述第一B型器件的内侧有源区与第二B型器件栅极电连接;
所述A型、B型为载流子是空穴或电子的导电类型,B型器件为MOS器件。
2.如权利要求1所述的MOS开关电容电路的芯片集成结构,其特征在于,所述A型重掺杂区的电位与第一B型器件和/或第二B型器件衬底电位相同。
3.如权利要求1所述的MOS开关电容电路的芯片集成结构,其特征在于,所述A型重掺杂区包围第一B型器件内侧有源区底面和各个侧面,但不包括内侧有源区面向第一B型器件沟道方向的侧面。
4.如权利要求1所述的MOS开关电容电路的芯片集成结构,其特征在于,所述A型为P型,B型为N型。
5.如权利要求1所述的MOS开关电容电路的芯片集成结构,其特征在于,所述第一B型器件靠近内侧有源区的沟道边缘具有第一A型浅掺杂区,所述第一A型浅掺杂区的的掺杂浓度小于第一B型器件沟道的掺杂浓度。
6.如权利要求5所述的MOS开关电容电路的芯片集成结构,其特征在于,所述第一B型器件的栅极未覆盖所述A型浅掺杂区。
7.如权利要求1所述的MOS开关电容电路的芯片集成结构,其特征在于,所述A型重掺杂区与第二B型器件的内侧有源区之间具有第二A型浅掺杂区,所述第二A型浅掺杂区的掺杂浓度小于第二B型器件沟道的掺杂浓度。
8.如权利要求1所述的MOS开关电容电路的芯片集成结构,其特征在于,所述第一B型器件的内侧有源区与第二B型器件栅极通过底层金属导线电连接。
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