[发明专利]MOS开关电容电路的芯片集成结构有效

专利信息
申请号: 201510246279.6 申请日: 2015-05-15
公开(公告)号: CN104882443B 公开(公告)日: 2017-10-31
发明(设计)人: 王建全;彭彪;张干;王作义;崔永明 申请(专利权)人: 四川广义微电子股份有限公司
主分类号: H01L27/02 分类号: H01L27/02
代理公司: 成都行之专利代理事务所(普通合伙)51220 代理人: 罗言刚
地址: 629000 四川省遂宁市经济技术开发区内(*** 国省代码: 四川;51
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摘要:
搜索关键词: mos 开关 电容 电路 芯片 集成 结构
【权利要求书】:

1.MOS开关电容电路的芯片集成结构,包括A型外延层,其特征在于,还包括位于A型外延层上的第一B型器件和第二B型器件,所述第一B型器件和第二B型器件之间为A型重掺杂区,所述A型重掺杂区的掺杂浓度大于A型外延层的掺杂浓度,所述A型重掺杂区紧邻第一B型器件内侧有源区,所述A型重掺杂区的底部具有向第一B型器件的内侧有源区底部延伸的延伸部;所述第一B型器件的内侧有源区与第二B型器件栅极电连接;

所述A型、B型为载流子是空穴或电子的导电类型,B型器件为MOS器件。

2.如权利要求1所述的MOS开关电容电路的芯片集成结构,其特征在于,所述A型重掺杂区的电位与第一B型器件和/或第二B型器件衬底电位相同。

3.如权利要求1所述的MOS开关电容电路的芯片集成结构,其特征在于,所述A型重掺杂区包围第一B型器件内侧有源区底面和各个侧面,但不包括内侧有源区面向第一B型器件沟道方向的侧面。

4.如权利要求1所述的MOS开关电容电路的芯片集成结构,其特征在于,所述A型为P型,B型为N型。

5.如权利要求1所述的MOS开关电容电路的芯片集成结构,其特征在于,所述第一B型器件靠近内侧有源区的沟道边缘具有第一A型浅掺杂区,所述第一A型浅掺杂区的的掺杂浓度小于第一B型器件沟道的掺杂浓度。

6.如权利要求5所述的MOS开关电容电路的芯片集成结构,其特征在于,所述第一B型器件的栅极未覆盖所述A型浅掺杂区。

7.如权利要求1所述的MOS开关电容电路的芯片集成结构,其特征在于,所述A型重掺杂区与第二B型器件的内侧有源区之间具有第二A型浅掺杂区,所述第二A型浅掺杂区的掺杂浓度小于第二B型器件沟道的掺杂浓度。

8.如权利要求1所述的MOS开关电容电路的芯片集成结构,其特征在于,所述第一B型器件的内侧有源区与第二B型器件栅极通过底层金属导线电连接。

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