[发明专利]一种电子发射体功函数可调的阴极及其阵列有效
申请号: | 201510250562.6 | 申请日: | 2015-05-15 |
公开(公告)号: | CN104992890B | 公开(公告)日: | 2017-09-15 |
发明(设计)人: | 魏贤龙;吴功涛;陈清 | 申请(专利权)人: | 北京大学 |
主分类号: | H01J1/304 | 分类号: | H01J1/304;H01J1/15 |
代理公司: | 北京君尚知识产权代理事务所(普通合伙)11200 | 代理人: | 余功勋 |
地址: | 100871 北*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 电子 发射 函数 可调 阴极 及其 阵列 | ||
1.一种电子发射体功函数可调的阴极,包括一电子发射体;位于所述电子发射体两端,并和所述电子发射体电连接的一电极对;调制所述电子发射体功函数的一栅电极;隔离所述栅电极和所述电子发射体的一隔离层;其特征在于,所述电子发射体在费米能级附近具有的电子能态密度小于1012/cm2·meV;所述电极对的材质为具有低功函数的金属。
2.如权利要求1所述的电子发射体功函数可调的阴极,其特征在于,还包括支撑所述电子发射体、电极对、栅电极和隔离层的一衬底。
3.如权利要求1所述的电子发射体功函数可调的阴极,其特征在于,所述电子发射体由一维或准一维材料制成。
4.如权利要求3所述的电子发射体功函数可调的阴极,其特征在于,所述一维或准一维材料为碳纳米管或石墨烯纳米带。
5.如权利要求1所述的电子发射体功函数可调的阴极,其特征在于,所述低功函数的金属为钪、钇、铽、镥、铒或镧。
6.如权利要求1所述的电子发射体功函数可调的阴极,其特征在于,所述栅电极为单个电极或多个电极组成的电极组。
7.如权利要求1所述的电子发射体功函数可调的阴极,其特征在于,所述隔离层为真空或绝缘介质。
8.如权利要求2所述的电子发射体功函数可调的阴极,其特征在于,所述衬底为带有SiO2表面层的Si衬底。
9.一种电子发射体功函数可调的阴极阵列,其包含一定数量的权利要求1-8任意一项所述的电子发射体功函数可调的阴极,所述阴极排布在同一衬底表面。
10.如权利要求9所述的电子发射体功函数可调的阴极阵列,其特征在于,所述阴极独立拥有、共同拥有或部分共同拥有栅电极;所述阴极独立拥有、共同拥有或部分共同拥有电极对。
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