[发明专利]清洗剂组合物用原液、清洗剂组合物以及清洗方法有效
申请号: | 201510257664.0 | 申请日: | 2015-05-19 |
公开(公告)号: | CN105087185B | 公开(公告)日: | 2018-12-14 |
发明(设计)人: | 堀薰夫;中司宏树;赤松悠纪 | 申请(专利权)人: | 化研科技株式会社 |
主分类号: | C11D7/50 | 分类号: | C11D7/50 |
代理公司: | 北京瑞盟知识产权代理有限公司 11300 | 代理人: | 刘昕 |
地址: | 日本国大阪府*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 洗剂 组合 原液 以及 清洗 方法 | ||
本发明提供一种通过掺合一定量水,能够得到环境安全性良好且具有良好的清洗性以及干燥性、并且操作容易性良好的、具有一定浊点的清洗剂组合物的清洗剂组合物用原液、使用该清洗剂组合物用原液而形成的清洗剂组合物以及清洗方法。本发明提供的清洗剂组合物用原液为相对于100重量份的清洗剂组合物用原液添加一定量水时,形成具有一定浊点的清洗剂组合物的清洗剂组合物用原液等,含有第1以及第2有机溶剂作为有机溶剂,并且第1有机溶剂为用下述通式(1)表示的化合物,第2有机溶剂为亲水性胺化合物。通式(1)中,R1~R3为各自独立的取代基,R1为碳原子数为1~4的烷基,R2为正乙烯基或异丙烯基,R3为碳原子数为1~3的烷基,重复数n为1~3的整数。
技术领域
本发明涉及一种清洗剂组合物用原液、清洗剂组合物以及清洗方法,尤其是涉及一种通过添加一定量水,能够得到环境安全性良好且具有良好的清洗性以及干燥性、并且操作容易性良好的、具有一定浊点的清洗剂组合物的清洗剂组合物用原液、使用该清洗剂组合物用原液而形成的清洗剂组合物以及清洗方法。
背景技术
以往,众所周知,将IC或电容器等电子部件焊接于印刷电路板等时,助焊剂从锡膏中飞散,以残渣的形式附着于电极的周围(以下将该助焊剂的残渣称作“助焊剂残渣”)。
该助焊剂残渣除了成为焊接接合部的腐蚀等原因以外,还成为在引线接合工序中的接合不良、以及与树脂密封工序中的模具树脂的密接不良等的原因,因此,需要用清洗剂除去,以往,提出了各种清洗剂。
尤其是近年来,有人提出了一种清洗剂组合物,其通过含有较多的水而获得良好的环境安全性,并且具有良好的清洗性(例如参照专利文献1~2)。
即,专利文献1中公开了一种清洗剂组合物,其相对于100重量份的清洗剂组合物用原液含有50~1900重量份的水,并且用于在白浊状态下清洗被清洗物,其特征在于,清洗剂组合物用原液至少含有第1以及第2有机溶剂作为有机溶剂,第1有机溶剂为沸点为140~190℃的范围内的值、在水中的溶解度(测定温度:20℃)为50重量%以下的值的选自由疏水性乙二醇醚化合物、疏水性碳化氢化合物、疏水性芳香族化合物、疏水性酮化合物、以及疏水性醇化合物组成的组中的至少一种化合物,第2有机溶剂为沸点为140~190℃的范围内的值、在水中的溶解度(测定温度:20℃)为超过50重量%的值的亲水性胺化合物,相对于100重量份的第1有机溶剂,第2有机溶剂的掺合量为0.3~30重量份的范围内的值,而且含有作为第3有机溶剂的沸点为140~190℃的范围内的值、在水中的溶解度(测定温度:20℃)为超过50重量%的值的选自由亲水性乙二醇醚化合物、亲水性醇化合物、亲水性含氮化合物、以及亲水性含硫化合物组成的组中的至少一种化合物时,相对于100重量份的第1有机溶剂,第3有机溶剂的掺合量为150重量份以下的值,并且,相对于100重量份的第1有机溶剂,作为沸点为超过190℃的值的有机溶剂的掺合量为0重量份、或0~15重量份(但是,不含0重量份。)的范围内的值。
另外,在专利文献2中公开了一种用于除去助焊剂残渣的清洗剂,其使用含有由用下述通式(15)和/或用下述通式(16)表示的非离子系化合物形成的有机溶剂(A)20~40重量%、以及水(B)60~80重量%、并且浊点为20~90℃的水溶液而成。
【化学式1】
(通式(15)中,R7表示碳原子数为2~5的烷基或苯基,R8表示异丙烯基,x表示1~3的整数。)
【化学式2】
(通式(16)中,R9表示碳原子数为3~8的烷基或苯基,R10表示正乙烯基,y表示1~3的整数。)
专利文献1:专利第5127009号公报(权利要求书)
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