[发明专利]生长氮化镓结晶组合物的方法在审
申请号: | 201510259501.6 | 申请日: | 2007-11-09 |
公开(公告)号: | CN104894645A | 公开(公告)日: | 2015-09-09 |
发明(设计)人: | 马克.P.德维林;克里斯蒂.J.纳兰;朴东实;洪慧聪;曹宪安;拉里.Q.曾 | 申请(专利权)人: | 莫门蒂夫性能材料股份有限公司 |
主分类号: | C30B29/40 | 分类号: | C30B29/40;C30B25/02;C30B9/08;C30B19/02;C30B19/12 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 孙梵 |
地址: | 美国康*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 生长 氮化 结晶 组合 方法 | ||
1.一种生长氮化镓结晶组合物的方法,包括:
加热与形核中心连通的源材料,其中所述形核中心包括含有镓和氮的第一结晶组合物,该第一结晶组合物具有厚度w以及限定垂直于厚度w的晶面的尺寸x和y,其中该第一结晶组合物包括至少一个尺寸x或y为至少3mm的至少一个晶粒,所述至少一个晶粒不含二维缺陷且具有小于约10,000cm-2的一维位错密度;以及
在所述第一结晶组合物上生长第二结晶组合物,其中所述第一结晶组合物和所述第二结晶组合物是相同或不同的第III族氮化物。
2.权利要求1的方法,其中所述第一结晶组合物包括至少一个尺寸x或y为至少5mm的至少一个晶粒,所述至少一个晶粒不含二维缺陷且具有小于约10,000cm-2的一维位错密度。
3.权利要求1的方法,其中所述第一结晶组合物包括至少一个尺寸x或y为至少10mm的至少一个晶粒,所述至少一个晶粒不含二维缺陷且具有小于约10,000cm-2的一维位错密度。
4.权利要求1的方法,其中所述第一结晶组合物包括至少一个尺寸x或y为至少15mm的至少一个晶粒,所述至少一个晶粒不含二维缺陷且具有小于约10,000cm-2的一维位错密度。
5.权利要求1的方法,其中所述形核中心包括图案化衬底、该图案化衬底限定至少一个具有确定尺寸的切口。
6.权利要求5的方法,还包括从所述切口的边界横向生长所述第二结晶组合物。
7.权利要求1的方法,其中所述源材料设置在具有第一区域和第二区域的腔室中,所述第二区域与所述第一区域隔开;该方法还包括:
将所述形核中心置于第一区域;
将所述源材料置于第二区域;以及
将溶剂置于腔室,其中所述溶剂包括含氮流体和酸性矿化剂。
8.权利要求7的方法,还包括相对于所述第二区域将不同量的热能施加于所述第一区域。
9.权利要求7的方法,其中所述含氮流体基本上由氨组成。
10.权利要求7的方法,其中所述酸性矿化剂包括HX、NH4X或GaX3中至少一种,其中X为卤素。
11.权利要求7的方法,其中所述酸性矿化剂包括HX、NH4X或GaX3中两种或更多种的混合物,并且X包括至少一种卤素。
12.权利要求7的方法,其中所述酸性矿化剂包括镓、氮化镓或氨中一种或多种与HX、NH4X或GaX3中一种或多种的至少一种反应产物,其中X为卤素。
13.权利要求7的方法,其中所述酸性矿化剂包括至少一种前体,该前体在反应条件下分解形成镓、氮化镓或氨中一种或多种与HX、NH4X或GaX3中一种或多种的至少一种反应产物,其中X为卤素。
14.权利要求7的方法,还包括提供酸性矿化剂,该酸性矿化剂的量足以使腔室中卤化物相对于溶剂的浓度达到约0.5摩尔%至约90摩尔%。
15.权利要求7的方法,还包括提供掺杂剂源,其中所述掺杂剂源包括Be、C、O、Mg、Si、H、Ca、Sc、Ti、V、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Zn、Ge、Zr、Hf、稀土金属以及它们的组合中的至少一种。
16.权利要求7的方法,还包括设置吸气剂,其中该吸气剂可操作地对腔室中的水或氧中的至少一种起作用,以降低水或氧的反应可获性。
17.权利要求16的方法,其中所述吸气剂包括AlX3、CrX3、ZrX4、HfX4、VX4、NbX5、TaX5或WX6中的至少一种,其中X为卤素。
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