[发明专利]利用同步辐射大面积快速制备颜色滤波器的方法及装置

权利要求书

1.一种利用同步辐射大面积快速制备颜色滤波器的方法，其特征在于，包括以下步骤：

    a．将甩有光刻胶的玻璃基底置于具有二维平移控制装置的样品台上；

    b．根据所需颜色对应的微结构参数，所述的微结构参数包括周期、膜厚、占空比，选择所需的四光栅组, 利用同步辐射软X射线照射四光栅组，保留一级衍射条纹形成干涉图样，通过挡板滤去其他衍射级次，对玻璃基底上的光刻胶进行曝光；曝光形成的微结构周期p和光栅周期Λ之间的关系为

                                                   

其中λ为曝光所用软X射线波长，θ为相对的两光栅一级衍射光夹角；

    c．控制样品台的二维平移，实现拼接曝光；

    d．进行金属膜层蒸镀，对光刻胶进行剥离后得到颜色滤波器。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述的同步辐射软X射线，波长为8-15nm, 曝光精度优于8nm。

3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述的四光栅组中的每个光栅的面积大于200 微米 x 200 微米，光栅周期最小可达100nm。

4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述的二维平移，X，Y方向平移精度优于1 微米，可平移范围10cm x 10cm。

5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述的颜色滤波器的面积最大可达10cm x 10cm。

6.一种利用同步辐射大面积快速制备颜色滤波器的装置，其特征在于，依次包括同步辐射软X射线光源系统、四光栅组、挡板、具有二维平移控制装置的样品台。

7.根据权利要求6所述的装置，其特征在于，所述的同步辐射软X射线光源系统包括同步辐射软X射线、四刀狭缝、柱面镜、光阑。

8.根据权利要求6所述的装置，其特征在于，所述的同步辐射软X射线光源系统，波长为8-15nm，曝光精度优于8nm。

9.根据权利要求6所述的装置，其特征在于，所述的四光栅组中的每个光栅的面积大于200微米 x 200 微米，光栅周期最小可达100nm。

10.根据权利要求6所述的装置，其特征在于，所述的二维平移控制装置：X，Y方向平移精度优于1微米，可平移范围10cm x 10cm。