[发明专利]一种分层雕刻方法有效

专利信息
申请号: 201510259732.7 申请日: 2015-05-20
公开(公告)号: CN104827815B 公开(公告)日: 2017-08-25
发明(设计)人: 单威 申请(专利权)人: 安徽一威贸易有限公司
主分类号: B44C1/22 分类号: B44C1/22
代理公司: 合肥市长远专利代理事务所(普通合伙)34119 代理人: 程笃庆,黄乐瑜
地址: 230011 安徽省合肥*** 国省代码: 安徽;34
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摘要:
搜索关键词: 一种 分层 雕刻 方法
【权利要求书】:

1.一种分层雕刻方法,其特征在于,包括以下步骤:

S1、获得雕刻模型;

S2、选取原点,对雕刻模型的表层进行点分解生成表层点集,并根据表层点集中的分解点建立坐标;

S3、在步骤S2的坐标中建立参考模型,参考模型由不少于一个参考点组成,且表层点集中的每一个分解点均对应参考模型的一个参考点;

S4、根据每一对分解点与参考点的对应关系生成进给值;

S5、根据进给值对分解点进行区间划分,每一区间中的分解点对应的进给值两两之间最大差值不大于预设浮动值;

S6、针对每一区间建立雕刻路径;

S7、根据雕刻路径对胚体进行雕刻。

2.如权利要求1所述的分层雕刻方法,其特征在于,步骤S3具体为:

S31、确定胚体与雕刻刀具的相对运动方向;

S32、根据相对运动方向建立覆盖于胚体外侧的参考面,多个参考面形成可包覆于胚体外侧的参考模型;

S33、垂直于相对运动方向,对每一个分解点向参考面做射线以获取交点作为参考点。

3.如权利要求2所述的分层雕刻方法,其特征在于,当坯体相对于雕刻刀作直线运动,步骤S32中的参考面为平行于运动方向的平面。

4.如权利要求2所述的分层雕刻方法,其特征在于,当坯体相对于雕刻刀转动,步骤S32中的参考面为以转动轴为轴心的圆柱面。

5.如权利要求1所述的分层雕刻方法,其特征在于,步骤S5中浮动值为0。

6.如权利要求1所述的分层雕刻方法,其特征在于,步骤S7具体为:获得每一区间中进给值的平均值,根据平均值从大到小的顺序选择雕刻路径对胚体进行雕刻。

7.如权利要求1至6任一项所述的分层雕刻方法,其特征在于,还包括步骤S8:判断雕刻品是否合格。

8.如权利要求7所述的分层雕刻方法,其特征在于,步骤S8包括以下步骤:

S81、预设误差允许值;

S82、获取雕刻品图像,并根据图像建立实际表层点集;

S83、根据实际表层点集与表层点集计算实际误差,并将实际误差与误差允许值比较,根据比较结果判断雕刻品是否合格。

9.一种分层雕刻系统,用于执行如权利要求1至6任一项所述的分层雕刻方法,其特征在于,包括:模型建立模块、路径分析模块、控制模块、驱动模块和刀具模块;

刀具模块中包含不少于一个可运动地刀具,刀具用于对胚体进行雕刻;

驱动模块与刀具模块连接,用于驱动刀具运动;

模型建立模块用于建立雕刻模型;

路径分析模块与模型建立模块连接,其根据雕刻模型生成多条雕刻路径,每一条雕刻路径上各点相对于预设参考模型的进给值相同;

控制模块分别与路径分析模块和驱动模块连接,其根据雕刻路径生成控制指令以控制驱动模块驱动刀具模块工作。

10.如权利要求9所述的分层雕刻系统,其特征在于,还包括检测模块,其用于获取雕刻品图像,并根据图像建立实际模型,将实际模型与雕刻模型对比,判断雕刻品是否合格。

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