[发明专利]一种改善釉浆性能的立式储釉缸

权利要求书

1.一种改善釉浆性能的立式储釉缸，其特征在于：包括储釉缸、翻转机构和底座，所述储釉缸为立式柱体结构，且所述储釉缸通过所述翻转机构可活动翻转安装于所述底座；

所述储釉缸包括筛网装置、筛网推顶装置和用于进出料的进出口；

所述筛网装置可活动的卡装于所述储釉缸的内腔并将所述内腔分隔形成两个或两个以上具有相同截面的空间，两个或两个以上的所述空间通过筛网相连通；

所述筛网推顶装置安装于所述储釉缸的内壁，其推顶端连接于所述筛网装置并提供推拉力给所述筛网装置，所述筛网装置在推拉力的作用下在所述储釉缸的内腔实现上下来回运动；

所述进出口设置于所述储釉缸的上端或下端。

2.根据权利要求1所述的一种改善釉浆性能的立式储釉缸，其特征在于：所述储釉缸是由具有开口的缸体和釉盖组成的密封储釉缸，所述釉盖安装于所述缸体的开口。

3.根据权利要求2所述的一种改善釉浆性能的立式储釉缸，其特征在于：所述进出口至少设置有两个，两个所述进出口分别相对设置于所述储釉缸的上下两端。

4.根据权利要求2所述的一种改善釉浆性能的立式储釉缸，其特征在于：所述筛网推顶装置安装于所述釉盖的中部或沿所述釉盖内壁的边沿均匀间隔设置。

5.根据权利要求2所述的一种改善釉浆性能的立式储釉缸，其特征在于：所述筛网推顶装置设置有两个或两个以上，所述筛网推顶装置沿所述储釉缸的内壁均匀对称分布安装于所述内壁。

6.根据权利要求2所述的一种改善釉浆性能的立式储釉缸，其特征在于：所述缸体的内壁沿所述筛网装置的运动方向设置用于限位所述筛网装置的限位导轨，所述限位导轨至少设置有两条，所述限位导轨均匀分布于所述内壁，所述筛网装置对应设有滑槽，所述滑槽限位卡装于所述限位导轨。

7.根据权利要求1或6所述的一种改善釉浆性能的立式储釉缸，其特征在于：所述筛网装置的框架边缘设有密封圈。

8.根据权利要求1所述的一种改善釉浆性能的立式储釉缸，其特征在于：所述储釉缸还包括与所述内腔相连通的抽真空装置。

9.根据权利要求1所述的一种改善釉浆性能的立式储釉缸，其特征在于：所述储釉缸还包括与所述内腔相连通的充气装置。

10.根据权利要求1所述的一种改善釉浆性能的立式储釉缸，其特征在于：所述筛网装置的筛网为具有磁性的筛网，所述筛网至少设置一层。