[发明专利]一种光学透明频率选择表面结构及制作方法

权利要求书

1.一种光学透明频率选择表面结构，包括衬底(1)，分布在衬底(1)上的透明网栅膜(2)，其特征在于，

所述的透明网栅膜(2)表面具有周期开孔阵列(3)；

所述的透明网栅膜(2)的形状为20～25℃温度和50～80％RH湿度条件下，含有丙烯酸树脂的裂纹甲油自然干燥形成的图形；

所述的周期开孔阵列(3)内部，具有以下两种结构中的一种：

结构一、不含有透明网栅膜(2)；

结构二、含有透明网栅膜(2)，孔内的透明网栅膜(2)和孔外的透明网栅膜(2)不连通。

2.一种权利要求1所述光学透明频率选择表面结构的制作方法，其特征在于，包括以下步骤：

步骤a，首先在衬底(1)的上表面滴涂掩模液，所述的掩模液为含有水性丙烯酸树脂的裂纹甲油，然后采用旋涂法将掩模液均匀涂覆在衬底(1)表面，形成掩模层薄膜(21)；

步骤b，在密闭腔室中，控制腔室温度为20～25℃，湿度为50～80％RH，将掩模层薄膜(21)自然干燥，形成裂纹模板(22)；

步骤c，采用磁控溅射方式或电子束蒸镀方式，在裂纹模板(22)的表面沉积导电金属层(23)；

步骤d，采用裂纹甲油清洗剂或氯仿溶液溶解去除裂纹模板(22)，得到连续的透明网栅膜(2)；

步骤e，在连续的透明网栅膜(2)上制作开孔阵列掩模结构或与开孔阵列互补的掩模结构；

步骤f，去除掩模结构未覆盖的透明网栅膜(2)；

步骤g，去除掩模结构，得到光学透明频率选择表面结构。

3.如权利要求2所述的光学透明频率选择表面结构的制作方法，其特征在于，步骤b所述的裂纹模板(22)的平均裂纹宽度w与掩模层薄膜(21)厚度h之间的关系为：

w＝0.342e^0.266h

式中，w为裂纹模板(22)的平均裂纹宽度，单位μm；h为掩模层薄膜(21)厚度，单位μm；

步骤b所述的裂纹模板(22)的平均裂纹间隔d与掩模层薄膜(21)厚度h之间的关系为：

d＝15.8e^0.169h

式中，d为裂纹模板(22)的平均裂纹间隔，单位μm；h为掩模层薄膜(21)厚度，单位μm；

所述的厚度h与旋涂转速r之间满足：

h＝(1.283-0.25lnk)(0.008r⁴-0.237r³+2.542r²-11.98r+25.64)

式中，r的取值范围在1kr/min至6kr/min之间。