[发明专利]一种内嵌式金属网栅电磁屏蔽光学窗制备方法

权利要求书

1.一种内嵌式金属网栅电磁屏蔽光学窗制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

步骤a，制作二氧化钛溶胶；

步骤b，采用旋涂法在衬底上涂覆厚度为2～5μm的二氧化钛溶胶，并使二氧化钛溶胶自然干燥，形成裂缝模板；

步骤c，在裂缝模板表面连续刮涂掺有疏水溶剂的纳米银浆，直到纳米银浆充满裂缝，并在50～80℃温度范围内加热烘烤。

2.根据权利要求1所述的内嵌式金属网栅电磁屏蔽光学窗制备方法，其特征在于，步骤a具体为：

将体积份数为40～80份的乙醇和体积份数为0～40份的乙酸进行混合，得到第一混合液；

将体积份数为20份的钛酸丁酯在剧烈搅拌条件下缓慢加入第一混合液，得到第二混合液；

将体积份数为5～10份的无水乙醇，体积份数为8～13份的冰醋酸，和体积份数为1份的去离子水均匀混合，得到第三混合液；

将第三混合液以1～5滴/秒的速度滴入剧烈搅拌的第二混合液中，得到第四混合液；

将第四混合液搅拌1h后，密封静置1～2天，得到二氧化钛溶胶。

3.根据权利要求2所述的内嵌式金属网栅电磁屏蔽光学窗制备方法，其特征在于，所述的剧烈搅拌是指转速大于800r/min的磁力搅拌或超声振荡。

4.根据权利要求1、2或3所述的内嵌式金属网栅电磁屏蔽光学窗制备方法，其特征在于，步骤b中，使二氧化钛溶胶自然干燥的条件为：温度为15～25℃，湿度为70～80％RH。

5.根据权利要求1所述的内嵌式金属网栅电磁屏蔽光学窗制备方法，其特征在于，还包括步骤d，抛光裂缝模板表面。