[发明专利]平行平晶光学非均匀性的绝对测量方法

权利要求书

1.一种平行平晶光学非均匀性的绝对测量方法，其特征在于，包括以下步骤：

步骤1，建立坐标系，以斐索型激光干涉仪的光轴发射方向为z轴，垂直地面方向为y轴，x轴、y轴、z轴构成拇指沿光轴方向的右手坐标系；采用斐索型激光干涉仪对第一透射参考平晶T₁工作面A和待测平行平晶S前表面B进行一次干涉测量得结果M₁；

步骤2，沿着光轴方向，在待测平行平晶S后面放置反射参考平晶R，对第一透射参考平晶T1工作面A和反射参考平晶R工作面D进行一次干涉测量，得到待测平行平晶S的透射测量结果M₂；

步骤3，将待测平行平晶S绕y轴旋转180度，对第一透射参考平晶T₁工作面A和待测平行平晶S后表面C进行一次干涉测量得结果M₃，将测量结果M₃沿y轴进行镜像反转得到

步骤4，取走待测平行平晶S，对第一透射参考平晶T₁工作面A和反射参考平晶R工作面D进行一次空腔干涉测量得结果M₄；

步骤5，用第二透射参考平晶T₂替换第一透射参考平晶T₁，第二透射参考平晶T₂作为干涉仪参考镜，将第一透射参考平晶T₁绕y轴旋转180度，对第二透射参考平晶T₂工作面E和第一透射参考平晶T₁工作面A进行一次干涉测量得结果M₅；

步骤6，对第二透射参考平晶T₂工作面E和反射参考平晶R工作面D进行一次干涉测量得结果M₆；

步骤7，综合步骤1～6的测量结果，得到待测平行平晶S的光学非均匀性Δn。

2.根据权利要求1所述的平行平晶光学非均匀性的绝对测量方法，其特征在于，步骤1所述采用斐索型激光干涉仪对第一透射参考平晶T₁工作面A和待测平行平晶S前表面B进行一次干涉测量得结果M₁，公式如下：

M₁＝2B(x,y)-2A(x,y)(1)

式中，A(x,y)表示第一透射参考平晶T₁工作面A的面形误差，B(x,y)表示待测平行平晶S前表面B面形误差。

3.根据权利要求1所述的平行平晶光学非均匀性的绝对测量方法，其特征在于，步骤2所述对第一透射参考平晶T1工作面A和反射参考平晶R工作面D进行一次干涉测量，得到待测平行平晶S的透射测量结果M₂，公式如下：

M₂＝2B(x,y)-2A(x,y)+2n₀[C(x,y)-B(x,y)]+2D(x,y)-2C(x,y)+2δ(2)

式中，n₀表示待测平行平晶S的折射率名义值，δ表示待测平行平晶S光学非均匀性引入的波像差，C(x,y)表示待测平行平晶S后表面C的面形误差，D(x,y)表示反射参考平晶R工作面D的面形误差。