[发明专利]一种污水处理设施及其污水处理方法

权利要求书

1.一种污水处理设施，包括壳体和设置于所述壳体底部内壁的曝气器，其特征在于，还包括第一导流板、沉淀区、污泥斗、配水渠、第二导流板、溢流槽和清水槽；所述壳体中部设置两块垂直于壳体底面的第一导流板，将壳体内腔依次分隔为第一好氧反应区、缺氧反应区和第二好氧反应区，且所述第一导流板上下两端均与壳体间隔设置；所述第一好氧反应区和第二好氧反应区均设置有所述沉淀区和污泥斗，所述沉淀区设置于所述污泥斗开口端，且在所述污泥斗的尖端设置有通孔；所述第二导流板设置于所述污泥斗上端开口端内部，与污泥斗开口端的壁面平行设置；所述污泥斗开口端的壁面开设有导流孔，且所述第二导流板的顶端高于所述导流孔所在高度；所述配水渠设置于所述缺氧反应区中部上方，且配水渠壁面开设有出水口；所述沉淀区上方间隔设置有多个溢流槽，所述溢流槽两端分别连接所述污泥斗远端的第二导流板和清水槽，所述清水槽平行所述配水渠设置于所述壳体；所述第一好氧反应区和第二好氧反应区底部除所述污泥斗尖端正下方之外，均设置有曝气器。

2.根据权利要求1所述的污水处理设施，其特征在于，所述配水渠两侧的壁面均匀设置有多个出水口，且在所述多个出水口处均设置有闸门。

3.根据权利要求2所述的污水处理设施，其特征在于，所述沉淀区内设置有多块沉淀斜板。

4.根据权利要求3所述的污水处理设施，其特征在于，所述污泥斗开口端的壁面均匀设置有多个导流孔，所述第二导流板与所述导流孔所在的污泥斗开口端同高。

5.根据权利要求4所述的污水处理设施，其特征在于，所述污泥斗尖端距所述壳体底部内壁0.2～0.5米。

6.根据权利要求5所述的污水处理设施，其特征在于，所述壳体、第一导流板、污泥斗、配水渠、第二导流板和沉淀斜板均采用砖、灰、水泥材料制造。

7.根据权利要求6所述的污水处理设施，其特征在于，所述污泥斗为上部矩形、下部锥形的腔体。

8.根据权利要求1所述的污水处理设施，其特征在于，所述缺氧反应区底部设置若干水下推流器。

9.一种污水处理设施的污水处理方法，其特征在于，包括以下步骤：

(1)原水由所述配水渠一端流入渠内，然后通过配水渠两侧的出水口流入缺氧反应区，通过闸门调节各出水口的水量平衡；

(2)通过所述缺氧反应区底部设置的水下推流器搅拌缺氧反应区的泥水混合液，使所述第一好氧反应区和第二好氧反应区顶部流入的硝化混合液、原水和污泥得到充分混合，以提高反硝化效率；

(3)通过所述第一好氧反应区和第二好氧反应区底部的曝气器对混合液进行曝气，为微生物供氧，同时产生气升作用，使硝化混合液从其顶部流入缺氧反应区和污泥斗；

(4)进入污泥斗的硝化混合液在沉淀区得到澄清，清水通过溢流槽流入清水槽排出，沉淀污泥经过污泥斗尖端开口回流至第一好氧反应区和第二好氧反应区，进入后续的反应循环。