[发明专利]一种非甾类抗炎药分子印迹聚合物的制备方法及应用

权利要求书

1.一种非甾体抗炎药分子印迹聚合物的制备方法，其特征在于，依次包括以下步骤：

S1. 对分子印迹预聚合体系的构型、能量、反应配比以及复合反应的结合能进行分子模拟计算，根据所得结果设计出适合的分子印迹聚合物制备体系；

S2. 以非甾体抗炎药为模板，将模板、功能单体、交联剂、引发剂、制孔剂加入反应釜中混合，超声脱气，然后充氮除氧，密封后于70~75℃恒温水浴聚合 12~16小时，得到带有模板分子非甾体抗炎药的分子印迹聚合物；

S3. 将S2得到的聚合物研磨过筛，得均匀带有模板分子非甾体抗炎药的分子印迹聚合物颗粒，洗脱，得到留有分子印迹孔穴的聚合物颗粒，真空下烘干，即得到除去模板的非甾体抗炎药分子印迹聚合物；

其中，步骤S2所述的功能单体为4-乙烯基吡啶或三氟甲基丙烯酸中的一种或两种；所述的交联剂为乙二醇基二甲基丙烯酸酯或季戊四醇三丙烯酸酯中的一种或两种；所述模板、功能单体和交联剂的质量比为1:1~4:4~6；所述非甾体抗炎药选自阿司匹林、乙酰氨基酚或者安乃近。

2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，S3所述研磨后过250~300目筛。

3.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述模板、功能单体、交联剂、引发剂、制孔剂的质量比为1:1~4:4~6:0.1~0.3:16~22。

4.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述模板、功能单体、交联剂、引发剂、制孔剂的质量比为1:1~4:4:0.1~0.3:16~22；其中，所述功能单体为4-乙烯基吡啶，所述交联剂为季戊四醇三丙烯酸酯。

5.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述模板、功能单体、交联剂、引发剂、制孔剂的质量比为1:1~4: 6:0.1~0.3:16~22；其中，所述功能单体为三氟甲基丙烯酸，所述交联剂为乙二醇基二甲基丙烯酸酯。

6.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，S3所述烘干为70℃干燥12h。

7.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，S3所述洗脱采用甲醇乙酸混合溶液和甲醇进行洗脱。

8.权利要求1~7任一项所述制备方法制备得到的非甾体抗炎药分子印迹聚合物，其特征在于，所述除去模板的非甾体抗炎药分子印迹聚合物具有与非甾体抗炎药分子体积、结构、极性相匹配的印记位点。

9.权利要求8所述的非甾体抗炎药分子印迹聚合物在非甾体抗炎药提取、分离、富集中的应用。

10.根据权利要求9所述的应用，其特征在于，将得到的非甾体抗炎药分子印迹聚合物做柱层析填料装柱，然后用非甾体抗炎药水提取液上柱，经淋洗，洗脱，回收洗脱液得到非甾体抗炎药。