[发明专利]一种利用软X射线照射花粉培育无籽西瓜的方法

权利要求书

1.一种利用软X射线照射花粉培育无籽西瓜的方法，包括获取二倍体雄花花粉的步骤以及用软X射线照射二倍体雄花花粉的步骤，其特征在于：

所述获取二倍体雄花花粉的步骤为：采摘雄花，收集花药，然后将收集的花药置于25～27℃、相对湿度为60～80％的环境中干燥，之后除去杂质，即得到雄花花粉；

所述用软X射线照射二倍体雄花花粉的步骤是将获取的二倍体雄花花粉平铺于器皿中，置于软X射线照射装置中，控制照射剂量为800GY，照射时间为50～70min。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于：在获取二倍体雄花花粉的步骤中，干燥的程度按下述标准操作：将收集的花药置于器皿中，平铺成2～6mm的厚度，再置于25～27℃、相对湿度为60～70％的环境中干燥30～90min。

3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于：在获取二倍体雄花花粉的步骤中，干燥的程度按下述标准操作：将收集的花药置于器皿中，平铺成3～4mm的厚度，再置于26℃、相对湿度为60～70％的环境中干燥50～70min。

4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于：在获取二倍体雄花花粉的步骤中，采摘雄花时，是采摘当天开放的雄花。

5.根据权利要求1～4中任一项所述的方法，其特征在于：在用软X射线照射二倍体雄花花粉的步骤中，在用软X射线照射二倍体雄花花粉时，控制二倍体雄花花粉所在的平面与软X射线发生源的距离为150～250mm。

6.根据权利要求1～4中任一项所述的方法，其特征在于：在用软X射线照射二倍体雄花花粉的步骤中，在用软X射线照射二倍体雄花花粉时，控制二倍体雄花花粉所在的平面与软X射线发生源的距离为180～220mm。

7.根据权利要求1～4中任一项所述的方法，其特征在于：在用软X射线照射二倍体雄花花粉的步骤中，在用软X射线照射二倍体雄花花粉时，控制二倍体雄花花粉在的器皿中的平铺厚度为1～3mm。

8.根据权利要求1～4中任一项所述的方法，其特征在于：在用软X射线照射二倍体雄花花粉的步骤中，控制照射时间为55～65min。