[发明专利]排放控制系统

说明书

本申请是提交于2012年2月1日，申请号为201280014466.6，题为“排放控制系统”的专利申请的分案申请。本申请要求于2011年2月1日提交且发明名称为“排放控制系统”的第61/438,404号临时申请的权益。本申请要求于2011年8月26日提交且发明名称为“HBr处理”的第61/527,949号临时申请的权益。

技术领域

无

背景技术

无

发明内容

如本文所使用，对HBr注入浓度的引用被写成HBr占干烟道气体积的百万分率(ppmvd)。ppmvd浓度的表示法仅表示气相浓度，包括气体中夹带的成分，但不包括气体中不夹带的任何成分。因此，附在气体夹带的飞灰上的HBr(或活性溴)将被包括在HBrppmvd数量中，而附在导管壁上的飞灰中的HBr将不被包括在内。因此，为达成本披露的目的，以ppmvd为单位的HBr浓度表示法把与被夹带的飞灰或其他被夹带的颗粒物质结合的任何HBr当作处在蒸汽相来计算。在注入其他化合物或气体不是烟道气的情况下，ppmvd的计算仍然相同。如本文中所使用，用单位μg/m³表示的气体浓度表示在标准条件68℉和14.696psi下的浓度。

本文所述的用于处理汞污染气体的方法可以包括(例如)将从HBr与HI中选择的卤化氢引入含有一定量的颗粒物质的汞污染气流中，其引入速率足以产生至少0.1ppmvd的浓度；其中在所述汞污染气流中，全部颗粒物质中超过50％为原生颗粒物质；使一定量的活性溴与所述原生颗粒物质接触；生成掺杂颗粒物质；用所述掺杂颗粒物质覆盖过滤介质；以及使一部分所述汞污染气流通过所述过滤介质上的所述掺杂颗粒物质。在一种相关方法中，从HBr与HI中选择的所述卤化氢为HBr。在一种相关方法中，从HBr与HI中选择的卤化氢的所述引入过程可能发生在所述汞污染气流低于750℉时。在一种相关方法中，从HBr与HI中选择的卤化氢的所述引入过程发生在所述汞污染气流高于180℉时。在另一种相关方法中，所述汞污染气流为煤的燃烧的副产物，所述煤的氯含量按重量计小于300ppm且汞含量按重量计大于50ppb。在又一种相关方法中，从HBr与HI中选择的卤化氢的所述引入过程的引入速率所产生的浓度最大为15ppmvd。

本文所述的用于处理汞污染气体的方法可以包括(例如)将稀释HBr水溶液引入含有一定量的颗粒物质的汞污染气流中，其HBr引入速率足以产生至少0.1ppmvd的HBr浓度；使一定量的活性溴与一部分所述一定量的颗粒物质接触；由所述一定量的活性溴与所述一定量的颗粒物质生成掺杂颗粒物质；以及产生静电力从而将超过50％的所述掺杂颗粒物质从所述汞污染气流中去除。在一种相关方法中，在所述掺杂颗粒物质上收集汞。在另一种相关方法中，在静电除尘器中产生所述静电力。在又一种相关方法中，稀释HBr水溶液的所述引入过程的引入速率所产生的HBr浓度最大为10ppmvd。

本文所述的用于处理汞污染气体的方法可以包括(例如)将汞污染气体引入导管；其中所述导管包含易受HBr影响材料；其中所述汞污染气体具有初始汞量；其中所述导管具有内表面；将一定量的稀释HBr水溶液注入所述导管中；其中所述一定量的稀释HBr水溶液的所述注入是通过多个喷嘴进行，其HBr注入速率足以产生至少0.1ppmvd的HBr浓度；其中所述多个喷嘴的喷雾图案覆盖了所述导管的大部分截面；其中HBr水溶液没有大量积累在所述内表面上；以及使所述汞污染气体与介质接触，由此将至少50％的所述初始汞量从所述汞污染气体中去除。在一种相关方法中，所述一定量的稀释HBr水溶液的所述注入过程发生在所述汞污染气体处在180℉与750℉之间时。在另一种相关方法中，所述一定量的稀释HBr水溶液的所述注入过程发生在所述汞污染气体处在180℉与750℉之间时。在又一种相关方法中，所述多个喷嘴为多个双路流体喷嘴，且所述稀释HBr水溶液的HBr浓度大于0.25％。在再另一种相关方法中，所述一定量的稀释HBr水溶液的所述注入是通过多个喷嘴进行，其HBr注入速率产生的HBr浓度最大为10ppmvd。