[发明专利]用于制作掩模集成框架的对位方法及系统

权利要求书

1.一种用于制作掩模集成框架的对位方法，其特征在于，包括：

以金属框架的中心为坐标原点建立绝对坐标系，所述金属框架的中心与以作为基准的阵列基板的中心重合；

控制所述阵列基板移动，使像素点在绝对坐标系下的坐标与所述预设的理论值的偏移量小于预定误差值；

将移动阵列基板后的像素点在绝对坐标系下的坐标传输至张网机；

所述方法还包括将移动阵列基板后的阵列基板上的对位孔、厚度测试区域在所述绝对坐标系下的坐标传输至张网机。

2.如权利要求1所述的用于制作掩模集成框架的对位方法，其特征在于，所述控制所述阵列基板移动使像素点在绝对坐标系下的坐标与所述预设的理论值的偏移量小于预定误差值的步骤包括：

测量所述阵列基板上的像素点在绝对坐标系下的坐标与预设的理论值的偏移量；

当判断偏移量大于所述预定误差值时控制所述阵列基板向像素点偏移的反方向移动所述偏移量的距离。

3.如权利要求2所述的用于制作掩模集成框架的对位方法，其特征在于，所述测量所述阵列基板上的像素点在绝对坐标系下的坐标与预设的理论值的偏移量包括：在所述阵列基板上每个有效像素阵列中选取至少三个在同一直线上的像素点作为样本进行测量。

4.如权利要求1所述的用于制作掩模集成框架的对位方法，其特征在于，所述预定误差值为1.5微米。

5.如权利要求1～4中任一项所述的用于制作掩模集成框架的对位方法，其特征在于，还包括存储移动阵列基板后的像素点在绝对坐标系下的坐标。

6.一种用于制作掩模集成框架的对位系统，其特征在于，包括：

坐标系建立单元，用于以金属框架的中心为坐标原点建立绝对坐标系，所述金属框架的中心与以作为基准的阵列基板的中心重合；

移动控制单元，用于控制所述阵列基板移动，使像素点在绝对坐标系下的坐标与所述预设的理论值的偏移量小于预定误差值；

坐标传输单元，用于将移动阵列基板后的像素点在绝对坐标系下的坐标传输至张网机；

所述坐标传输单元还用于将移动阵列基板后的阵列基板上的对位孔、厚度测试区域在所述绝对坐标系下的坐标传输至张网机。

7.如权利要求6所述的用于制作掩模集成框架的对位系统，其特征在于，所述移动控制单元包括：

偏移量测量单元，用于测量所述阵列基板上的像素点在绝对坐标系下的坐标与预设的理论值的偏移量；

判断移动单元，用于当判断偏移量大于所述预定误差值时控制所述阵列基板向像素点偏移的反方向移动所述偏移量的距离。

8.如权利要求7所述的用于制作掩模集成框架的对位系统，其特征在于，所述偏移量测量单元具体用于在所述阵列基板上每个有效像素阵列中选取至少三个在同一直线上的像素点作为样本进行测量。

9.如权利要求6所述的用于制作掩模集成框架的对位系统，其特征在于，所述预定误差值为1.5微米。

10.如权利要求6～9中任一项所述的用于制作掩模集成框架的对位系统，其特征在于，还包括：坐标存储单元，用于存储移动阵列基板后的像素点在绝对坐标系下的坐标。