[发明专利]一种双重版图的设计方法及系统

说明书

技术领域

本发明涉及集成电路设计领域，特别涉及一种双重版图的设计方法。

背景技术

随着集成电路特征尺寸的不断缩小，传统的193nm波长光源难以用于22nm以下图形的光刻，单次曝光光刻达到了几何基线，光刻问题成为研究的重点。

目前，双重版图技术(DPL，Double Pattering Lithography)成为进一步缩小光刻尺寸的首选，双重版图技术是将一套高密度的电路图形分解成两套分立的、相对低密度的图形，并分别进行成像和刻蚀，从而将高密度的图形转移到目标晶圆上。双重版图技术中的关键在于高密度的版图的分解，分解中图形的切割以及分解后的两版图间图形数量的平衡都是需要考虑和解决的问题。

发明内容

本发明的目的旨在至少解决上述技术缺陷之一，提供一种双重版图的设计方法和系统，基于冲突环路进行图形的切割，降低设计的复杂度，提高设计效率。

为此，本发明提供了如下技术方案：

一种双重版图的设计方法，包括：

查找原始版图中的冲突图形，冲突图形为图形间的距离小于预设距离的一对图形；

根据冲突图形查找冲突环路，冲突环路为图形数为奇数的图形环路；

将冲突环路中的图形进行分割，以消除冲突环路。

可选的，查找版图中的冲突图形的步骤包括：

将版图中的图形标号；

查找版图中的冲突图形，冲突图形为图形间的距离小于预设距离的一对图形，并将冲突图形的一对标号分别记录在第一链表和第二链表的链表对中；

根据冲突图形查找冲突环路的步骤包括：

进行标号对的查找，当第二链表中的标号与之前标号对中第一链表的标号相同时停止查找，以获得标号序列，每次标号对查找的步骤包括：以第一链表的标号在链表对中查找，获得当次查找的标号对，并将当次标号对中第二链表的标号设定为下次查找的第一链表的标号；

从标号序列中选择出环路，将图形数量为奇数的环路确定为冲突环路。

可选的，从标号序列中选择出环路之后，还包括步骤：

将图形数量为偶数的环路确定为非冲突环路；

删除末尾标号对，删除末尾标号对的步骤包括：将非冲突环路的标号序列中的最后一个标号对删除；

将最后一个标号对中第二链表的标号设定为继续查找的第一链表的标号，并返回进行标号对查找的步骤；

若无法查找到下一个标号对，则返回末尾标号对的删除步骤；

若查找到下一个标号对，则返回进行标号对的查找步骤。

可选的，在消除冲突环路之后，还包括：

进行图形的分组，将相互间具有冲突关系的图形归为同组，将与其他图形都不存在冲突关系的图形归为同组；

将组内图形间隔着色。

可选的，还包括：

统计各组与相邻的组在交界处与相邻图形具有相同颜色和不同颜色的数量之差；

将差值大于预定值的组内的图形颜色进行翻转。

此外，本发明还提供了一种双重版图的设计系统，包括：

冲突图形查找单元，用于查找原始版图中的冲突图形，冲突图形为图形间的距离小于预设距离的一对图形；

冲突环路查找单元，用于根据冲突图形查找冲突环路，冲突环路为图形数为奇数的图形环路；

图形分割单元，用于将冲突环路中的图形进行分割，以消除冲突环路。

可选的，所述冲突图形查找单元包括：

标号单元，用于将版图中的图形标号；

冲突图形确定单元，用于冲突图形为图形间的距离小于预设距离的一对图形，并将冲突图形的一对标号分别记录在第一链表和第二链表的链表对中；

所述冲突环路查找单元包括：

查找序号设定单元，用于将前次标号对中第二链表的标号设定为本次查找的第一链表的标号；

标号序列获取单元，用于以第一链表的标号在链表对中查找，获得当次查找的标号对，并将当次标号对中第二链表的标号设定为下次查找的第一链表的标号，当第二链表中的标号与之前标号对中第一链表的标号相同时停止查找，以获得标号序列；

冲突环路确定单元，用于从标号序列中选择出环路，将图形数量为奇数的环路确定为冲突环路。

可选的，还包括：

非冲突环路确定单元，用于将图形数量为偶数的环路确定为非冲突环路；

末尾标号对删除单元，用于将非冲突环路的标号序列中的最后一个标号对删除；