[发明专利]一种紫外线屏蔽剂及其制备方法和包含该紫外线屏蔽剂的聚乳酸薄膜及其制备方法

权利要求书

1.一种包含紫外线屏蔽剂的聚乳酸薄膜，其特征在于，所述聚乳酸薄膜由包括以下重量配比的组分制得：

聚乳酸树脂 95～99重量份，

紫外线屏蔽剂 0.1～5重量份，

热稳定剂 0.1～0.5重量份，

所述紫外线屏蔽剂具有核壳结构，其中，以纳米二氧化钛为核材料，以纳米二氧化硅壳层材料，所述紫外线屏蔽剂的制备方法包括以下步骤：

(1-1)采用超声振荡将纳米二氧化钛分散于异丙醇中，所述纳米二氧化钛为二氧化钛纳米棒，其长为30～80nm，直径5～10nm，所述纳米二氧化钛与异丙醇的用量比为纳米二氧化钛的重量:异丙醇的体积＝(0.01～0.1)重量份:1体积份，其中，基于1g为1重量份，基于1mL为1体积份，调节体系pH至9～10；

(1-2)向步骤1-1体系中加入正硅酸酯，所述正硅酸酯选自正硅酸四乙酯、正硅酸四甲酯、正硅酸四丙酯、正硅酸四丁酯中的一种或多种，升温，搅拌，正硅酸酯与异丙醇的体积比为(2～8):100；

(1-3)将步骤1-2制得的反应混合物过滤、洗涤、干燥，即得紫外线屏蔽剂，制得的紫外线屏蔽剂具有核壳结构，其中，核材料为纳米二氧化钛，壳层材料为纳米二氧化硅，所述核材料纳米二氧钛为二氧化钛纳米棒，其长为30～80nm，直径5～10nm，由纳米二氧化硅形成的壳层的厚度为3～8nm，紫外线屏蔽剂的核壳质量比为0.5:1～1.1:1。

2.根据权利要求1所述的聚乳酸薄膜，其特征在于，在步骤1-2中，所述正硅酸酯为正硅酸四乙酯。