[发明专利]一种n型氧化亚铜薄膜及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201510280535.3 申请日: 2015-05-28
公开(公告)号: CN104846335B 公开(公告)日: 2017-06-23
发明(设计)人: 叶凡;蔡兴民;王欢;苏小强;范平;张东平;罗景庭;郑壮豪;梁广兴 申请(专利权)人: 深圳大学
主分类号: C23C14/08 分类号: C23C14/08;C23C14/34;H01L31/18
代理公司: 深圳市君胜知识产权代理事务所(普通合伙)44268 代理人: 王永文,刘文求
地址: 518060 广东*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 氧化亚铜 薄膜 及其 制备 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及太阳能电池的薄膜材料领域,尤其涉及一种n型氧化亚铜薄膜及其制备方法。

背景技术

用太阳能电池获取太阳能是一种重要的产生新能源的方法,在用作太阳能电池的材料中,氧化亚铜(Cu2O)占有重要的地位,因为氧化亚铜具有众多优点:直接带隙(禁带宽度约为2.1eV)、吸收系数高、制备成本低、铜和氧在地球上储量丰富且无毒性、以及用氧化亚铜制成的太阳能电池其转换效率理论上可达20%以上。氧化亚铜的众多优点使其在新型太阳能电池上有重要应用,例如,氧化亚铜可用作基于铜铟镓硒的多晶叠层太阳能电池的顶层结;还可用于中间带太阳能电池,因为中间带太阳能电池所要求的最佳禁带宽度(1.9eV)与氧化亚铜的禁带宽度非常接近。

然而,实验表明用氧化亚铜制成的太阳能电池其转换效率仅达2%,其中一个重要的原因是现有技术并没能制备出氧化亚铜同质结。没有掺杂的氧化亚铜是 p 型的,由铜空位充当受主,n型氧化亚铜一直难以实现。

有研究者报道用电化学方法制备的未掺杂氧化亚铜表现为n型,但实验表明这种n型导电是一种假象,来源于表面吸附铜离子产生的反型层。也有报道表明往氧化亚铜中掺入钴、钨或氯可以得到n型导电。但掺钴或钨的氧化亚铜仅在高温下才是n型,在室温下仍为p型,其并不能很好的应用于太阳能电池中。理论计算也表明,受主铜空位在未掺杂氧化亚铜时形成能最低,所以未掺杂时的氧化亚铜必定仍为p型。而对于掺氯氧化亚铜而言,因为其制备方法和导电类型测试与表现为 n型导电假象的未掺杂氧化亚铜完全一致,所以其n型导电也很可能是一种假象,来源于表面反型层而不是掺杂。

现有技术中并未制备出一种可以用于同质结太阳能电池的n型氧化亚铜薄膜材料,使其能有效改善太阳能电池的转换效率。

因此,现有技术还有待于改进和发展。

发明内容

鉴于上述现有技术的不足,本发明的目的在于提供一种n型氧化亚铜薄膜及其制备方法,旨在解决现有技术中p型氧化亚铜所制备出的太阳能电池转化效率低,而n型氧化亚铜只能存在于高温条件下的问题。

本发明的技术方案如下:

一种n型氧化亚铜薄膜的制备方法,其中,所述制备方法采用反应性双靶共溅射的方法,以铜靶材和铟靶材作为溅射靶材,以硅片或K9玻璃作为衬底,以高纯氧气和氩气作为溅射气体;所述溅射铜靶材的纯度为99.99%,铟靶材的纯度为99.999%;所述铜靶位上的功率为15-18W,所述铟靶位上的功率为5-15W。

所述n型氧化亚铜薄膜的制备方法,其中,所述制备方法包括以下步骤:

A、采用丙酮、酒精和去离子水依次对衬底进行超声波清洗,并对清洗后的衬底进行固定;

B、分别将铜靶材和铟靶材固定在两个靶位上,溅射靶材放置的位置与衬底之间的距离为7-11cm;

C、将反应室抽真空至压力低于6×10-4Pa,通入高纯氧气和氩气进行溅射,在溅射气压为1-3Pa,衬底温度为300-500℃的条件下溅射20-40分钟,形成沉积在衬底表面的薄膜;

D、溅射结束后,将薄膜温度冷却至室温,得到所制备的n型氧化亚铜薄膜。

所述n型氧化亚铜薄膜的制备方法,其中,在步骤A之前还包括:

S、预先对铜靶材溅射10min,除去铜靶材表面的氧化物和杂质。

所述n型氧化亚铜薄膜的制备方法,其中,在步骤C中,所述高纯氧气的体积流量为0.5-1.5sccm,所述氩气的体积流量为20-30sccm。

所述n型氧化亚铜薄膜的制备方法,其中,在步骤C中,所述高纯氧气的体积流量为1sccm,所述氩气的体积流量为28sccm。

所述n型氧化亚铜薄膜的制备方法,其中,在步骤C中,所述铜靶上的溅射电压为300-400V,所述铟靶上的溅射电压为270-300V。

所述n型氧化亚铜薄膜的制备方法,其中,所述铜靶上的溅射电压为350V,所述铟靶上的溅射电压为280或290V。

所述n型氧化亚铜薄膜的制备方法,其中,所述铜靶位上的功率为16.5W,所述铟靶位上的功率为10W。

一种n型氧化亚铜薄膜,其特征在于,由上述任一项制备方法所制成。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳大学,未经深圳大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201510280535.3/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top