[发明专利]一种n型氧化亚铜薄膜及其制备方法有效
申请号: | 201510280535.3 | 申请日: | 2015-05-28 |
公开(公告)号: | CN104846335B | 公开(公告)日: | 2017-06-23 |
发明(设计)人: | 叶凡;蔡兴民;王欢;苏小强;范平;张东平;罗景庭;郑壮豪;梁广兴 | 申请(专利权)人: | 深圳大学 |
主分类号: | C23C14/08 | 分类号: | C23C14/08;C23C14/34;H01L31/18 |
代理公司: | 深圳市君胜知识产权代理事务所(普通合伙)44268 | 代理人: | 王永文,刘文求 |
地址: | 518060 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 氧化亚铜 薄膜 及其 制备 方法 | ||
技术领域
本发明涉及太阳能电池的薄膜材料领域,尤其涉及一种n型氧化亚铜薄膜及其制备方法。
背景技术
用太阳能电池获取太阳能是一种重要的产生新能源的方法,在用作太阳能电池的材料中,氧化亚铜(Cu2O)占有重要的地位,因为氧化亚铜具有众多优点:直接带隙(禁带宽度约为2.1eV)、吸收系数高、制备成本低、铜和氧在地球上储量丰富且无毒性、以及用氧化亚铜制成的太阳能电池其转换效率理论上可达20%以上。氧化亚铜的众多优点使其在新型太阳能电池上有重要应用,例如,氧化亚铜可用作基于铜铟镓硒的多晶叠层太阳能电池的顶层结;还可用于中间带太阳能电池,因为中间带太阳能电池所要求的最佳禁带宽度(1.9eV)与氧化亚铜的禁带宽度非常接近。
然而,实验表明用氧化亚铜制成的太阳能电池其转换效率仅达2%,其中一个重要的原因是现有技术并没能制备出氧化亚铜同质结。没有掺杂的氧化亚铜是 p 型的,由铜空位充当受主,n型氧化亚铜一直难以实现。
有研究者报道用电化学方法制备的未掺杂氧化亚铜表现为n型,但实验表明这种n型导电是一种假象,来源于表面吸附铜离子产生的反型层。也有报道表明往氧化亚铜中掺入钴、钨或氯可以得到n型导电。但掺钴或钨的氧化亚铜仅在高温下才是n型,在室温下仍为p型,其并不能很好的应用于太阳能电池中。理论计算也表明,受主铜空位在未掺杂氧化亚铜时形成能最低,所以未掺杂时的氧化亚铜必定仍为p型。而对于掺氯氧化亚铜而言,因为其制备方法和导电类型测试与表现为 n型导电假象的未掺杂氧化亚铜完全一致,所以其n型导电也很可能是一种假象,来源于表面反型层而不是掺杂。
现有技术中并未制备出一种可以用于同质结太阳能电池的n型氧化亚铜薄膜材料,使其能有效改善太阳能电池的转换效率。
因此,现有技术还有待于改进和发展。
发明内容
鉴于上述现有技术的不足,本发明的目的在于提供一种n型氧化亚铜薄膜及其制备方法,旨在解决现有技术中p型氧化亚铜所制备出的太阳能电池转化效率低,而n型氧化亚铜只能存在于高温条件下的问题。
本发明的技术方案如下:
一种n型氧化亚铜薄膜的制备方法,其中,所述制备方法采用反应性双靶共溅射的方法,以铜靶材和铟靶材作为溅射靶材,以硅片或K9玻璃作为衬底,以高纯氧气和氩气作为溅射气体;所述溅射铜靶材的纯度为99.99%,铟靶材的纯度为99.999%;所述铜靶位上的功率为15-18W,所述铟靶位上的功率为5-15W。
所述n型氧化亚铜薄膜的制备方法,其中,所述制备方法包括以下步骤:
A、采用丙酮、酒精和去离子水依次对衬底进行超声波清洗,并对清洗后的衬底进行固定;
B、分别将铜靶材和铟靶材固定在两个靶位上,溅射靶材放置的位置与衬底之间的距离为7-11cm;
C、将反应室抽真空至压力低于6×10-4Pa,通入高纯氧气和氩气进行溅射,在溅射气压为1-3Pa,衬底温度为300-500℃的条件下溅射20-40分钟,形成沉积在衬底表面的薄膜;
D、溅射结束后,将薄膜温度冷却至室温,得到所制备的n型氧化亚铜薄膜。
所述n型氧化亚铜薄膜的制备方法,其中,在步骤A之前还包括:
S、预先对铜靶材溅射10min,除去铜靶材表面的氧化物和杂质。
所述n型氧化亚铜薄膜的制备方法,其中,在步骤C中,所述高纯氧气的体积流量为0.5-1.5sccm,所述氩气的体积流量为20-30sccm。
所述n型氧化亚铜薄膜的制备方法,其中,在步骤C中,所述高纯氧气的体积流量为1sccm,所述氩气的体积流量为28sccm。
所述n型氧化亚铜薄膜的制备方法,其中,在步骤C中,所述铜靶上的溅射电压为300-400V,所述铟靶上的溅射电压为270-300V。
所述n型氧化亚铜薄膜的制备方法,其中,所述铜靶上的溅射电压为350V,所述铟靶上的溅射电压为280或290V。
所述n型氧化亚铜薄膜的制备方法,其中,所述铜靶位上的功率为16.5W,所述铟靶位上的功率为10W。
一种n型氧化亚铜薄膜,其特征在于,由上述任一项制备方法所制成。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳大学,未经深圳大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201510280535.3/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:蒸发源装置及蒸镀装置
- 下一篇:钻头表面涂层及其加工工艺
- 同类专利
- 专利分类