[发明专利]具备多层载物能力的离子束刻蚀系统及其刻蚀方法有效
申请号: | 201510284879.1 | 申请日: | 2015-05-29 |
公开(公告)号: | CN105047512B | 公开(公告)日: | 2017-03-15 |
发明(设计)人: | 戴秀海;余海春;龙汝磊 | 申请(专利权)人: | 光驰科技(上海)有限公司 |
主分类号: | H01J37/305 | 分类号: | H01J37/305;H01J37/20 |
代理公司: | 上海申蒙商标专利代理有限公司31214 | 代理人: | 徐小蓉 |
地址: | 200444 上海市宝*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 具备 多层 能力 离子束 刻蚀 系统 及其 方法 | ||
1.一种具备多层载物能力的离子束刻蚀系统,包括离子源和载物台,所述离子源对承载于所述载物台上的基片进行刻蚀,其特征在于:所述系统包括若干载物台和旋转轴,所述载物台沿所述旋转轴的轴向间隔设置在所述旋转轴上,所述载物台可随所述旋转轴转动,所述载物台上开设有离子束窗口,所述离子束窗口的开设位置与所述离子源所发射的离子束构成位置对应,满足于所述离子源所产生的离子束可穿过的要求。
2.根据权利要求1所述的一种具备多层载物能力的离子束刻蚀系统,其特征在于:所述载物台上方设置有修正板,所述修正板上开设有所述离子束窗口。
3.根据权利要求1所述的一种具备多层载物能力的离子束刻蚀系统,其特征在于:所述离子束窗口的轮廓形状、大小与所述基片的轮廓形状、大小吻合适配。
4.根据权利要求1所述的一种具备多层载物能力的离子束刻蚀系统,其特征在于:位于所述旋转轴轴向最底部的所述载物台为完整平台。
5.根据权利要求1所述的一种具备多层载物能力的离子束刻蚀系统,其特征在于:所述系统包括控制器,所述控制器根据所述载物台的层数信息连接控制所述离子源的工作状态。
6.根据权利要求1所述的一种具备多层载物能力的离子束刻蚀系统,其特征在于:若干所述载物台可随所述旋转轴同时旋转。
7.一种涉及权利要求1-6所述的具备多层载物能力的离子束刻蚀系统的刻蚀方法,其特征在于:所述刻蚀方法至少包括以下步骤:
打开所述离子源使其发射离子束,同时驱动所述旋转轴旋转,使位于所述旋转轴轴向最顶部的第一层载物台所承载的基片依次经过所述修正板上的所述离子束窗口,使所述离子束穿过所述修正板上的所述离子束窗口对所述第一层载物台所承载的基片依次进行刻蚀;
当所述第一层载物台所承载的基片全部经所述离子束刻蚀完毕后,驱动所述旋转轴旋转,使所述第一层载物台上的离子束窗口位于所述修正板上的所述离子束窗口下方,两个离子束窗口构成高度方向上的位置重叠;
保持所述第一层载物台静止,驱动所述旋转轴旋转,使位于所述旋转轴轴向的第二层载物台所承载的基片依次经过所述修正板上的所述离子束窗口和所述第一层载物台上的所述离子束窗口,使所述离子束穿过所述修正板上的所述离子束窗口和所述第一层载物台上的所述离子束窗口对所述第二层载物台所承载的基片依次进行刻蚀;
以此往复,完成所述旋转轴上所有载物台上的基片的离子束刻蚀。
8.根据权利要求7所述的一种具备多层载物能力的离子束刻蚀系统的刻蚀方法,其特征在于:根据每一层载物台在刻蚀时与所述离子源之间的距离的不同,调整所述离子源的参数、功率、刻蚀时间,所述离子源的调整满足于每一层载物台上的基片的刻蚀精度要求。
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