[发明专利]基板热处理装置

权利要求书

1.一种基板热处理装置，其特征在于，包括：

热处理室，经配置以界定基板的热处理空间；

基板支撑构件，经配置以在所述热处理空间中支撑所述基板；

加热器区块，在面对所述基板的灯安装表面上设置有多个加热灯；以及

窗口，阻挡由所述加热灯产生的灯波长范围中预定的阻挡波长范围内的光波长，且透射其余波长范围的透射波长范围内的光波长，以将所透射的光波长传递至所述基板。

2.根据权利要求1所述的基板热处理装置，其特征在于，所述窗口包括：

透射板，经配置以透射由所述加热灯产生的所有波长范围内的光波长；以及

涂布膜，涂布于所述透射板的上表面或下表面上，以仅阻挡所述阻挡波长范围内的光波长。

3.根据权利要求2所述的基板热处理装置，其特征在于，所述透射板是由石英材料形成。

4.根据权利要求2所述的基板热处理装置，其特征在于，所述涂布膜是由SiO2、TiO2及Ta2O5中的任一种或多种材料形成。

5.根据权利要求1所述的基板热处理装置，其特征在于，所述窗口是由在不涂布单独涂布膜条件下仅阻挡所述阻挡波长范围内的光波长、且透射所述透射波长范围内的光波长的材料形成。

6.根据权利要求5所述的基板热处理装置，其特征在于，所述窗口是由SiO2、TiO2、ZnSe、GLS、TICI、AqBr、TiBr及KI中的任一种或多种材料形成。

7.根据权利要求1至6中任一项所述的基板热处理装置，其特征在于，所述阻挡波长范围是自所述灯波长范围内的最低波长至700nm，且所述透射波长范围是自超过700nm的波长至所述灯波长范围内的最高波长的波长范围。

8.根据权利要求7所述的基板热处理装置，其特征在于，所述阻挡波长范围是自100nm至700nm的波长范围，且所述透射波长范围是自超过700nm的波长至4000nm的波长范围。