[发明专利]用于处理基板的装置

权利要求书

1.一种基板处理装置，包括：

器皿，被配置为在其中提供处理空间；

基板支撑单元，设置在所述器皿中以支撑基板；以及

喷射构件，被配置为在被加载在所述基板支撑单元上的所述基板上喷射处理溶液，

其中，所述器皿具有内侧面，在所述内侧面上形成有至少一个纹理图案。

2.根据权利要求1所述的基板处理装置，其中，所述至少一个纹理图案被设置成具有线性形状。

3.根据权利要求2所述的基板处理装置，其中，所述至少一个纹理图案包括设置成垂直于水平面并平行于垂直方向的垂直纹理图案。

4.根据权利要求2所述的基板处理装置，其中，所述至少一个纹理图案包括设置成相对于水平面倾斜的倾斜纹理图案。

5.根据权利要求2所述的基板处理装置，其中，所述至少一个纹理图案包括设置成螺旋状的螺旋纹理图案。

6.根据权利要求2所述的基板处理装置，其中，所述至少一个纹理图案包括：

垂直纹理图案，被设置成垂直于水平面并平行于垂直方向；以及

水平纹理图案，被设置成平行于所述水平面，

其中，所述水平纹理图案被设置成与所述垂直纹理图案交叉。

7.根据权利要求2所述的基板处理装置，其中，所述至少一个纹理图案包括以与砂纸表面的类似方式形成的砂纸状纹理图案。

8.根据权利要求2所述的基板处理装置，其中，所述至少一个纹理图案包括多个纹理图案，其中一些纹理图案被设置成以均匀距离彼此间隔开。

9.根据权利要求2所述的基板处理装置，其中，所述至少一个纹理图案包括多个纹理图案，其中一些纹理图案被设置成以至少两种不同的距离彼此间隔开。

10.根据权利要求2所述的基板处理装置，其中，所述至少一个纹理图案包括多个纹理图案，其中一些纹理图案被设置成彼此具有基本上相同的深度。

11.根据权利要求2所述的基板处理装置，其中，所述至少一个纹理图案包括多个纹理图案，其中一些纹理图案被设置成具有至少两种不同的深度。

12.根据权利要求2所述的基板处理装置，其中，所述至少一个纹理图案被设置成雕刻形状。

13.根据权利要求2所述的基板处理装置，其中，所述至少一个纹理图案被设置成浮雕形状。

14.根据权利要求1所述的基板处理装置，其中，所述器皿包括多个收集瓶，所述多个收集瓶具有在垂直方向上位于不同水平高度的入口，并且

所述至少一个纹理图案设置在所述收集瓶中每一个的内侧面上。

15.根据权利要求14所述的基板处理装置，其中，所述至少一个纹理图案包括在所述器皿的所述内侧面上沿着所述器皿的周向设置的多个纹理图案。

16.根据权利要求15所述的基板处理装置，其中，所述至少一个纹理图案包括设置成垂直于水平面并平行于垂直方向的垂直纹理图案。

17.根据权利要求15所述的基板处理装置，其中，所述至少一个纹理图案包括设置成相对于水平面倾斜的倾斜纹理图案。

18.一种基板处理装置，包括：

器皿，被配置为在其中提供处理空间；

基板支撑单元，设置在所述器皿中以支撑基板；以及

喷射构件，被配置为在被加载在所述基板支撑单元上的所述基板上喷射处理溶液，

其中，所述器皿包括分割构件，所述分割构件被配置为当用于基板处理过程的所述处理溶液与所述器皿的内侧面碰撞时分割所述处理溶液。

19.根据权利要求18所述的基板处理装置，其中，所述分割构件包括沿着所述器皿的周向设置在所述器皿的所述内侧面上的多个纹理图案。

20.根据权利要求19所述的基板处理装置，其中，所述纹理图案被设置成垂直于水平面并平行于垂直方向。