[发明专利]触控面板的制备方法、触控面板和显示装置

权利要求书

1.一种触控面板的制备方法，其特征在于，包括：在基板上对应形成第一电极链和第二电极链的区域外围形成黑矩阵；

采用一次构图工艺在所述基板上对应形成所述黑矩阵的区域形成第一金属走线和第二金属走线；

步骤S10：采用一次构图工艺在基板上形成包括第一电极链和绝缘层的图形；所述绝缘层形成于所述第一电极链上，且所述绝缘层覆盖所述第一电极链，所述第一电极链和所述绝缘层延伸至所述黑矩阵所在区域并覆盖所述第一金属走线，用于保护所述第一金属线；

步骤S11：采用一次构图工艺在完成所述步骤S10的基板上形成包括第二电极链的图形；所述第二电极链和所述第一电极链空间交叉并绝缘，所述第二电极链延伸至所述黑矩阵所在区域并覆盖所述第二金属走线，用于保护所述第二金属线。

2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述第一电极链和所述第二电极链均采用透明导电材料制成，所述绝缘层采用透明感光材料制成。

3.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在于，所述第一电极链为驱动电极链，所述第二电极链为感应电极链；

或者，所述第一电极链为感应电极链，所述第二电极链为驱动电极链。

4.根据权利要求3所述的制备方法，其特征在于，所述步骤S10具体包括：

步骤S101：在所述基板上沉积第一电极链膜，接着在所述第一电极链膜上涂布绝缘层膜；

步骤S102：通过曝光、显影工艺形成包括所述绝缘层的图形；

步骤S103：通过刻蚀工艺形成包括所述第一电极链的图形。

5.根据权利要求3所述的制备方法，其特征在于，所述步骤S11具体包括：

步骤S111：在完成所述步骤S10的所述基板上沉积第二电极链膜；

步骤S112：在所述第二电极链膜上涂布光刻胶，通过曝光、显影、刻蚀和光刻胶剥离工艺形成包括所述第二电极链的图形。

6.一种采用如权利要求1-5任意一项所述的制备方法制备的触控面板，其特征在于，包括基板以及依次设置在所述基板上的第一电极链、绝缘层和第二电极链，所述绝缘层覆盖所述第一电极链，所述第二电极链和所述第一电极链空间交叉并绝缘；

所述触控面板还包括黑矩阵、第一金属走线和第二金属走线，所述黑矩阵对应设置在所述基板的所述第一电极链和所述第二电极链所在区域的外围；

所述第一电极链和所述绝缘层延伸至所述黑矩阵所在区域并覆盖所述第一金属走线，用于保护所述第一金属线，所述第二电极链延伸至所述黑矩阵所在区域并覆盖所述第二金属走线，用于保护所述第二金属线。

7.根据权利要求6所述的触控面板，其特征在于，所述绝缘层的图形和所述第一电极链的图形相同。

8.根据权利要求6所述的触控面板，其特征在于，所述基板为保护盖板，所述保护盖板用于盖合在显示屏上，且所述保护盖板的形成有所述第一电极链和所述第二电极链的一面朝向所述显示屏；

或者，所述基板为彩膜基板，所述彩膜基板用于与阵列基板对盒，所述第一电极链和所述第二电极链设置在所述彩膜基板的背对所述阵列基板的一侧，且所述第一电极链和所述第二电极链的背对所述彩膜基板的一侧还设置有偏光片；

或者，所述基板为阵列基板，所述阵列基板上设置有彩膜层，所述第一电极链和所述第二电极链设置在所述彩膜层上方。

9.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求6-8任意一项所述的触控面板。