[发明专利]基于微纳米孔网集成结构的纳米孔检测系统及其制备方法

权利要求书

1.一种基于微纳米孔网集成结构的纳米孔检测系统，其特征在于：所述纳米孔检测系统包括电解质溶液腔室、微纳米孔网集成结构和用于检测待检测物的电流检测系统；

所述微纳米孔网集成结构包括纳米孔层薄膜和设置于纳米孔层薄膜上的网格层薄膜，所述纳米孔层薄膜上设置有纳米孔；所述网格层薄膜设置有微纳米网格；

所述微纳米孔网集成结构设置于所述电解质溶液腔室内部并将其分成上腔室和下腔室，所述纳米孔和微纳米网格贯通连接形成连通上腔室和下腔室的通道；

所述电流检测系统一端设置于上腔室内，另一端设置于下腔室内，与电解质溶液腔室内的电解质溶液连通形成用于检测待检测物的电路。

2.根据权利要求1所述的基于微纳米孔网集成结构的纳米孔检测系统，其特征在于：所述纳米孔层薄膜上设置有一个或多个纳米孔，所述每个纳米孔与微纳米网格贯通连接形成连通上腔室和下腔室的通道。

3.根据权利要求1所述的基于微纳米孔网集成结构的纳米孔检测系统，其特征在于：所述电流检测系统包括电源、电极Ⅰ、电极Ⅱ和电流计；

所述电极Ⅰ和电极Ⅱ分别置于上腔室和下腔室内；

所述电源、电极Ⅰ、电极Ⅱ和电流计串联形成用于检测待检测物的电路。

4.根据权利要求1所述的基于微纳米孔网集成结构的纳米孔检测系统，其特征在于：所述网格层薄膜为单层或多层的微纳米网格，所述微纳米网格的材料为二氧化硅、三氧化二铝或氧化锆。

5.根据权利要求1所述的基于微纳米孔网集成结构的纳米孔检测系统，其特征在于：所述纳米孔层薄膜的材料为氮化硅、石墨烯、二硫化钼、二氧化硅或三氧化二铝薄膜中的一种。

6.基于微纳米孔网集成结构的纳米孔检测系统的制备方法，其特征在于：包括以下步骤：

1)在硅片两面生成纳米孔层薄膜；

2)在所述纳米孔层薄膜上形成纳米孔；

3)在纳米孔上面生长无定形碳薄膜；

4)在无定形碳薄膜上面生长网格层薄膜；

5)在网格层薄膜的正面制作微纳米网格结构；

6)去掉无定形碳薄膜，将纳米孔和微纳米网格曝露出来，形成微纳米孔网集成结构；

7)将微纳米孔网集成结构设置于电解质溶液腔室内部并将其分成上腔室和下腔室，并使纳米孔和微纳米网格形成连通上腔室和下腔室的通道；

8)将电流检测系统一端设置于上腔室内，另一端设置于下腔室内并形成用于检测待检测物的电路。

7.根据权利要求6所述的基于微纳米孔网集成结构的纳米孔检测系统的制备方法，其特征在于：所述步骤5)后还包括以下步骤：

51)在形成微纳米网格的网格层薄膜上面生长无定形碳薄膜；

52)在无定形碳薄膜上面生长网格层薄膜；

53)在网格层薄膜上制作微纳米网格结构；

54)重复循环步骤51)-53)直至形成设置有微纳米网格的多层网格层薄膜。

8.根据权利要求6所述的基于微纳米孔网集成结构的纳米孔检测系统的制备方法，其特征在于：所述网格层薄膜上设置的微纳米网格与纳米孔层薄膜设置的纳米孔贯通连接。

9.根据权利要求6所述的基于微纳米孔网集成结构的纳米孔检测系统的制备方法，其特征在于：所述电流检测系统包括电源、电极Ⅰ、电极Ⅱ和电流计；

所述电极Ⅰ和电极Ⅱ分别置于上腔室和下腔室内；

所述电源、电极Ⅰ、电极Ⅱ和电流计串联形成检测待检物的电路。

10.根据权利要求6所述的基于微纳米孔网集成结构的纳米孔检测系统的制备方法，其特征在于：所述纳米孔层薄膜的材料为氮化硅、石墨烯、二硫化钼、二氧化硅或三氧化二铝薄膜中的一种。