[发明专利]基于电磁波波导和微纳米结构的自适应被动隐身方法

权利要求书

1.一种基于电磁波波导和微纳米结构的自适应被动隐身方法，其特征在于：在目标物体的底部设置电磁波耦合单元，在目标物体的上表面设置电磁波发射单元，在目标物体的底部和上表面之间的其它部位设置电磁波传输单元；通过电磁波耦合单元采集目标物体的背景发射的电磁波，经由电磁波传输单元和电磁波发射单元将采集到的背景电磁波在目标物体的表面向外发射来实现隐身；

所述目标物体的背景所发射的电磁波包括自然环境条件下的背景辐射电磁波和在目标物体底部置有外加辐射源条件下的背景反射电磁波；所述的外加辐射源与自然环境具有相似的辐射光谱能量分布，包括紫外光源、可见光源、红外光源、微波波段的辐射源或兼容以上波段的宽谱辐射源；

所述电磁波耦合单元是基于可透过电磁波的材料，通过微纳加工方法及涂层制备工艺制备而成的电磁波耦合涂层，表面形成电磁波减反射结构或有助于提高电磁波耦合效率的微结构，可高效地获取背景反射的电磁波；掺杂散射物质、荧光材料或量子点，以提高电磁波耦合的效率。

2.根据权利要求1所述的基于电磁波波导和微纳米结构的自适应被动隐身方法，其特征在于，所述可透过电磁波的材料包括无机材料和有机材料，无机材料包括石英、玻璃、氧化锌、氟化镁、氮化硅或碳化硅；有机材料包括聚甲基丙烯酸甲酯、聚碳酸酯或聚酰亚胺。

3.根据权利要求1所述的基于电磁波波导和微纳米结构的自适应被动隐身方法，其特征在于，所述的微纳加工方法包括刻蚀、腐蚀、镀覆、电子束曝光、离子束注入掺杂或机械微加工；所述涂层制备工艺包括注模、喷涂、旋涂、提拉法、化学或物理沉积法。

4.根据权利要求1所述的基于电磁波波导和微纳米结构的自适应被动隐身方法，其特征在于，所述电磁波减反射结构包括粗糙平面、光洁的平面、抛物面，以及设置有微透镜、微凸起或凹陷的表面结构；所述微结构包括光栅或可改变电磁波传播方向的微反射镜。

5.根据权利要求1所述的基于电磁波波导和微纳米结构的自适应被动隐身方法，其特征在于，所述散射物质包括有机微纳米颗粒或无机微纳米颗粒，有机微纳米颗粒包括聚苯乙烯颗粒；无机微纳米颗粒包括二氧化硅、二氧化钛或氧化铁颗粒；所述荧光材料包括无机荧光材料、磷光材料，以及带发光基团的有机荧光材料；所述量子点包括纳米尺寸的硫化镉、硒化镉、碲化镉、硒化锌、磷化铟或砷化铟。

6.根据权利要求1所述的基于电磁波波导和微纳米结构的自适应被动隐身方法，其特征在于，所述电磁波传输单元基于电磁波波导，采用与耦合单元的材料的电磁波特性相匹配的可透过电磁波的无机材料或有机材料制备而成的电磁波传输涂层，可将电磁波局限在其中，进行低损耗的传输，并可以灵活地改变传输方向；无机材料包括石英、玻璃、氧化锌、氟化镁、氮化硅或碳化硅；有机材料包括聚甲基丙烯酸甲酯、聚碳酸酯或聚酰亚胺。

7.根据权利要求1所述的基于电磁波波导和微纳米结构的自适应被动隐身方法，其特征在于，所述电磁波发射单元是通过在可透过电磁波的基体材料中添加微纳米散射点，或者通过表面微纳米结构制备获得的电磁波发射涂层，具有散射的性质，使电磁波从涂层中散射出来。

8.根据权利要求7所述的基于电磁波波导和微纳米结构的自适应被动隐身方法，其特征在于，所述基体材料是与电磁波传输单元的材料相匹配的无机材料或有机材料，无机材料包括石英、玻璃、氧化锌、氟化镁、氮化硅或碳化硅；有机材料包括聚甲基丙烯酸甲酯、聚碳酸酯或聚酰亚胺；所述微纳米散射点是具有高散射性质的无机微纳米颗粒或有机微纳米颗粒，无机微纳米颗粒包括二氧化钛或二氧化硅；有机微纳米颗粒包括聚苯乙烯；所述微纳米表面结构为微型网点、V形槽或微型凸透镜。