[发明专利]一种用于制备光学薄膜的方法

权利要求书

1.一种用于制备光学薄膜的方法，其特征在于，该方法的步骤如下：

步骤(1)、按照光学薄膜性能需要，设计初始膜系，并采用物理气相沉积技术制备光学薄膜；

步骤(2)、使用分光光度计或者椭偏仪对光学薄膜性能进行表征；

步骤(3)、建立光学薄膜结构模型，实现膜料特征参数与光学薄膜性能关联；

步骤(4)、对光学薄膜实测特性数据进行反演，通过多参数拟合确定膜料特征参数，同时获取各种膜料物理厚度控制的系统误差和延迟误差校正因子；

物理气相沉积技术制备光学薄膜时，光学薄膜膜系中任意层膜料的实际物理厚度与期望物理厚度间满足如下关系：

d₁＝△₀d₀+△₁ (1)

式中：d₁和d₀分别是膜料实际物理厚度和期望物理厚度；△₀和△₁分别是膜料物理厚度的系统误差校正因子和延迟误差校正因子；

步骤(5)、依据获得的膜料特征参数，按照光学薄膜性能要求，重新优化光学薄膜膜系设计，结合膜料物理厚度控制误差修正，采用物理气相沉积技术制备高性能光学薄膜。

2.根据权利要求1所述的一种用于制备光学薄膜的方法，其特征在于：所述步骤(1)中的初始膜系是单层膜或者多层膜；所述的物理气相沉积技术制备光学薄膜选用的膜料是一种或者多种。

3.根据权利要求1所述的一种用于制备光学薄膜的方法，其特征在于：所述步骤(2)中光学薄膜性能指的是透过率、反射率和/或反射系数比的模和幅角，所述的使用分光光度计或者椭偏仪对光学薄膜性能进行表征，分别指的是分光光度计对薄膜透过率和/或反射率的测量，椭偏仪对薄膜反射系数比的模和幅角表征。

4.根据权利要求1所述的一种用于制备光学薄膜的方法，其特征在于：所述步骤(3)中膜料特征参数包括物理厚度、折射率和消光系数。

5.根据权利要求1所述的一种用于制备光学薄膜的方法，其特征在于：所述步骤(4)中物理气相沉积技术制备光学薄膜过程中控制膜料物理厚度的方法有石英晶振法、时间监控法和转数控制法。