[发明专利]一种计算强度关联成像自准直仪及测量方法有效
| 申请号： | 201510293249.0 | 申请日： | 2015-06-01 |
| 公开（公告）号： | CN105157618B | 公开（公告）日： | 2018-06-01 |
| 发明（设计）人： | 赵连洁;霍娟;杨然;李明飞;张安宁;刘院省;莫小范 | 申请（专利权）人： | 北京航天控制仪器研究所 |
| 主分类号： | G01B11/26 | 分类号： | G01B11/26 |
| 代理公司： | 中国航天科技专利中心 11009 | 代理人： | 杨春颖 |
| 地址： | 100854 北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 关联成像 数字微镜阵列 计算模块 自准直仪 控制器 测量 待测件 关联 反光镜 矩阵 透镜 同步控制模块 同步时钟信号 光场调制 回波信号 空气扰动 量子成像 微小转动 场调制 分束器 记录光 灵敏度 自准直 二阶 减小 光源 引入 | ||
1.一种计算强度关联成像自准直仪，其特征在于：包括：光源(1)、数字微镜阵列DMD(2)、控制器(3)、分束器(4)、透镜(5)、待测件反光镜(6)、CCD(7)、强度关联计算模块(8)；控制器(3)包括光源调制模块和同步控制模块；
数字微镜阵列DMD(2)包括多个微镜阵列，光源(1)照射在数字微镜阵列DMD(2)的微镜阵列上，控制器(3)的光源调制模块产生光场调制矩阵，将光场调制矩阵存至强度关联计算模块(8)，并将该光场调制矩阵加载到数字微镜阵列DMD(2)上，使多个微镜阵列发生不同角度的翻转，微镜阵列反射光源(1)照射在数字微镜阵列DMD(2)的微镜阵列上的光束，形成调制光场，将该调制光场，在控制器(3)的同步控制模块发射的同步时钟信号控制下，入射至分束器(4)；
控制器(3)的同步控制模块用于发射同步时钟信号，作用到数字微镜阵列DMD(2)和CCD(7)上，控制数字微镜阵列DMD(2)和CCD(7)同时发射和采集信号；
分束器(4)将入射的调制光场分光成两路，分别是透射光束和反射光束，将调制光场分光得到的反射光束舍弃，将调制光场分光得到的透射光束入射到透镜(5)上形成平行光束后照射到待测件反光镜(6)，待测件反光镜(6)安装在待测件上，经待测件反光镜(6)反射的回波光束再次经过透镜(5)恢复成汇聚光束，并照射到分束器(4)上，分束器(4)将入射的汇聚光束分光成两路分别是透射光束和反射光束，将透镜(5)恢复成汇聚光束后照射到分束器(4)上分光得到的透射光束舍弃，将透镜(5)恢复成汇聚光束后照射到分束器(4)上分光得到的反射光束照射到CCD(7)上，在控制器(3)的同步控制模块发射的同步时钟信号控制下CCD(7)采集分束器(4)上分光得到的反射光束，形成回波信号，强度关联计算模块(8)记录该回波信号；
强度关联计算模块(8)将储存的光场调制矩阵和记录的回波信号进行二阶强度关联计算，得到关联结果。
2.根据权利要求1所述的一种计算强度关联成像自准直仪，其特征在于：所述光场调制矩阵为Hadamard矩阵，Hadamard矩阵编码原则为Hadamard矩阵行与行、列与列之间满足正交归一关系H*H
3.根据权利要求1所述的一种计算强度关联成像自准直仪，其特征在于：所述数字微镜阵列DMD(2)放置于透镜(5)的焦平面上。
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