[发明专利]曝光装置

权利要求书

1.一种曝光装置，所述曝光装置包括掩膜板，所述掩膜板上设置有掩膜图形，其特征在于，所述曝光装置还包括第一微透镜层，所述第一微透镜层设置在所述掩膜板的出光侧，且所述第一微透镜层利用穿过所述掩膜板的光线形成所述掩膜图形的缩小的实像，所述实像和所述掩膜板分别位于所述第一微透镜层的两侧。

2.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，所述曝光装置还包括第二微透镜层，所述第一微透镜层设置在所述掩膜板和所述第二微透镜层之间，所述实像形成在所述第一微透镜层和所述第二微透镜层之间，所述第二微透镜层用于使形成所述实像的像光均匀出射。

3.根据权利要求2所述的曝光装置，其特征在于，所述第一微透镜层包括多个第一微透镜，所述第一微透镜为凸透镜，所述掩膜图形在所述第一微透镜层和所述第二微透镜层之间形成的所述实像为倒立缩小的实像。

4.根据权利要求3所述的曝光装置，其特征在于，多个所述第一微透镜依次连接并排列为阵列。

5.根据权利要求2所述的曝光装置，其特征在于，所述第二微透镜层包括多个第二微透镜，所述第二微透镜包括形成为一体的第二上微透镜和第二下微透镜，且所述第二上微透镜的焦距不同于所述第二下微透镜的焦距，以使得形成所述实像的像光均匀出射。

6.根据权利要求5所述的曝光装置，其特征在于，所述实像与所述第二微透镜层之间的距离等于所述第二上微透镜的焦距。

7.根据权利要求5所述的曝光装置，其特征在于，所述第二微透镜层为复眼微透镜阵列。

8.根据权利要求2至7中任意一项所述的曝光装置，其特征在于，所述曝光装置还包括设置在所述第二微透镜层出光侧的投影透镜，所述投影透镜用于将所述实像投影到待曝光基板上。

9.根据权利要求8所述的曝光装置，其特征在于，所述投影透镜将所述实像以等大或缩小的投影比例投影到所述待曝光基板上。

10.根据权利要求1至7中任意一项所述的曝光装置，其特征在于，所述掩膜板包括透明基板，所述掩膜图形设置在所述透明基板的一侧，所述第一微透镜层贴合在所述透明基板的另一侧。