[发明专利]用于生产防止锡晶须形成的电触头元件的方法及触头元件在审
申请号: | 201510296531.4 | 申请日: | 2015-04-24 |
公开(公告)号: | CN105048246A | 公开(公告)日: | 2015-11-11 |
发明(设计)人: | H·施密特;S·索斯 | 申请(专利权)人: | 泰科电子AMP有限责任公司 |
主分类号: | H01R43/16 | 分类号: | H01R43/16;H01R12/58;H01R13/03 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 吴艳 |
地址: | 德国本*** | 国省代码: | 德国;DE |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 生产 防止 锡晶须 形成 电触头 元件 方法 | ||
1.一种用于制造电触头元件的方法,包括如下步骤:
提供基材;
施加至少一个导电接触层至所述基材,
其中所述接触层具有外表面,所述外表面通过粗糙度形成隆起并且该外表面适于接收润滑剂。
2.如权利要求1所述的方法,还包括用润滑剂涂覆所述接触层表面的步骤。
3.如权利要求2所述的方法,其中该接触层表面施加有油,该油的运动学粘度值在1.5mm2/s到680mm2/s之间。
4.如前述任一项权利要求所述的方法,其中所述基材由铜、锡青铜、黄铜、高强度黄铜、CuNi、CuMn、CuNiSi或CuAl合金或弱合金铜合金制造。
5.如前述任一项权利要求所述的方法,其中所述接触层由无锡金属涂层形成。
6.如权利要求5所述的方法,其中所述无锡金属涂层包括铁、钴、镍、铑、铱、钯、银或包括前述元素的合金。
7.如前述任一项权利要求所述的方法,其中所述接触层具有金字塔形、锥形、球形和/或块形隆起。
8.如前述任一项权利要求所述的方法,其中所述接触层通过电镀来制造,所述电镀的参数选择为产生所述粗糙度。
9.如前述任一项权利要求所述的方法,其中所述接触层的隆起的高度在0.4μm到10μm之间,优选地,在0.8μm到5μm之间。
10.如前述任一项权利要求所述的方法,其中至少一个中间层应用在所述基材与所述接触层之间。
11.如权利要求10所述的方法,其中所述中间层由表面粗糙度比所述接触层更小的镍层形成。
12.一种电触头元件,具有:
导电基材;以及
涂层,形成在所述导电基材的至少一部分上,其中所述涂层具有形成在所述基材上的接触层,其中,所述接触层具有外表面,该外表面通过粗糙度形成隆起并且适于接收润滑剂。
13.如权利要求12所述的电触头元件,还包括油的施加,该油的运动学粘度值在1.5mm2/s到680mm2/s之间。
14.如权利要求12或13所述的电触头元件,其形成为压入式触头元件、插头型触头元件、注塑成型触头元件、焊接连接件或薄膜导体接触件。
15.如权利要求12到14任一项所述的电触头元件,其中所述基材由铜、锡青铜、黄铜、高强度黄铜、CuNi、CuMn、CuNiSi或CuAl合金或弱合金铜合金制造。
16.如权利要求12-15任一项所述的电触头元件,其中所述接触层由无锡金属涂层形成。
17.如权利要求16所述的电触头元件,其中所述无锡金属涂层包括铁、钴、镍、铑、铱、钯、银或包括前述元素的合金。
18.如权利要求12-17任一项所述的电触头元件,其中所述接触层具有金字塔形、锥形、球形和/或块形隆起。
19.如权利要求12-18任一项所述的电触头元件,其中所述接触层的隆起的高度在0.4μm到10μm之间,优选地,在0.8μm到5μm之间。
20.如权利要求12-19任一项所述的电触头元件,其中至少一个中间层应用在所述基材与所述接触层之间。
21.如权利要求20所述的电触头元件,其中所述中间层由表面粗糙度比接触层更小的镍层形成。
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