[发明专利]一种g‑C3N4/{001}TiO2复合可见光催化剂及其制备方法与应用有效

专利信息
申请号: 201510298708.4 申请日: 2015-06-03
公开(公告)号: CN104998672B 公开(公告)日: 2017-10-20
发明(设计)人: 胡芸;宋旭;韦朝海 申请(专利权)人: 华南理工大学
主分类号: B01J27/24 分类号: B01J27/24;B01D53/86;B01D53/56
代理公司: 广州粤高专利商标代理有限公司44102 代理人: 何淑珍
地址: 510006 广东省*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 sub 001 tio 复合 可见 光催化剂 及其 制备 方法 应用
【说明书】:

技术领域

发明属于环境功能材料技术领域,具体涉及一种g-C3N4/{001}TiO2复合可见光催化剂及其制备方法与应用。

背景技术

光催化去除有机和无机污染物是一种很有前景的新的环境修复技术。纳米TiO2由于其廉价易得、性能稳定、氧化还原能力强等优点,至今仍然是最好的光催化剂之一。诸多理论和实验研究表明,在一般情况下,热力学不稳定的锐钛矿{001}TiO2较常规{101}TiO2光催化活性更高。但是其较窄的光谱响应范围和较高的载流子复合概率大大限制了其应用。目前较多使用掺杂的方法对{001}TiO2进行改性。但是因为{001}TiO2的结晶度高,用温和的后处理方法较难使掺杂原子进入晶格,而若在{001}TiO2成晶的过程中加入掺杂剂又不可避免的对TiO2{001}面的生成产生不良影响,甚至导致无法得到{001}TiO2。本发明选择原料廉价易得的g-C3N4与{001}TiO2进行半导体复合,以期拓宽{001}TiO2的光谱响应范围,提高其量子效率,从而提高其光催化去除污染物的性能。

目前g-C3N4只能通过煅烧的方式获得,故一般与其它物质复合时,都是先将g-C3N4制备好,再与其它半导体进行复合。但是{001}TiO2也有其自身的特殊性,由于在{001}TiO2成晶过程加入其它物质可能导致其{001}面无法形成,故一般与其它半导体复合时,也是先将{001}TiO2制备好。故若遵循一般制备方式,则只能将g-C3N4和{001}TiO2都制备好然后通过后处理的方式使二者结合,但这种方式制备的g-C3N4/{001}TiO2复合光催化剂中两相的结合必然不会如原位制备那般紧密,这不利于界面电荷的转移效率和催化活性的大幅度提高。另外,{001}TiO2表面由于制备而残留的F-离子一般不利于光催化反应的进行,需要去除,但是额外的去除F-离子流程必然会增加成本和能耗。本发明将g-C3N4的前驱物与{001}TiO2直接混合,通过简单的热处理使g-C3N4原位生长于{001}TiO2表面,得到两相结合紧密的复合催化剂,并且将去除{001}TiO2表面F-离子过程和g-C3N4生成过程结合为一个过程,不仅降低了成本与能耗而且还有利于{001}TiO2高活性{001}面的保留。

发明内容

本发明的目的在于提供一种g-C3N4/{001}TiO2复合可见光催化剂及其制备方法与应用。本发明采用原位制备技术,通过直接煅烧{001}TiO2和不同的g-C3N4前驱体来制备g-C3N4/{001}TiO2复合可见光催化剂。所制得的复合光催化剂具有高效的可见光催化活性和良好的稳定性。

本发明目的通过以下技术方案来实现:

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