[发明专利]一种低级烷烃芳构化反应-再生体系构建的工艺

权利要求书

1.一种低级烷烃芳构化反应-再生耦合工艺，其特征在于，包括以下步骤：

1)催化剂活化

使用催化剂活化反应器对催化剂进行活化，所述催化剂采用无氧芳构化催化剂；活化后的催化剂作为无氧芳构化反应原料；

2)芳构化反应

将步骤1)的无氧芳构化反应原料在非氧化条件下通入流化床芳构化反应器中，无氧芳构化反应原料在高温下被在反应器中预先流态化的催化剂催化，发生无氧芳构化反应，生成以芳烃和氢气为主的产品；芳构化反应温度为973～1173K；催化剂在反应器中停留时间为1.5min～30min；

3)催化剂再生

失活的催化剂经提升管提升至再生反应器中利用H₂进行再生，恢复催化活性；催化剂再生反应温度为973～1173K。

2.根据权利要求1所述的低级烷烃芳构化反应-再生体系构建的工艺，其特征在于，步骤1)所用的催化剂含有Mo以及第二金属组分，所述第二金属组分为Fe、Co、Ni、Zn、Sn或Pt。

3.根据权利要求1所述的低级烷烃芳构化反应-再生耦合工艺，其特征在于，步骤1)中，催化剂活化反应器的活化反应条件为：活化温度773K～973K，活化压力：0.05MPa～0.5MPa，活化空速：1000～10000ml/g/h。

4.根据权利要求3所述的低级烷烃芳构化反应-再生体系构建的工艺，其特征在于，活化反应完成判断标准：活化反应产物中苯生成速率达到最大。

5.根据权利要求1所述的低级烷烃芳构化反应-再生体系构建的工艺，其特征在于，步骤2)中，芳构化反应温度为1073K～1123K。

6.根据权利要求1所述的低级烷烃芳构化反应-再生体系构建的工艺，其特征在于，步骤3)中，催化剂再生反应温度为1073K～1123K。

7.根据权利要求1所述的低级烷烃芳构化反应-再生体系构建的工艺，其特征在于，步骤2)中，催化剂在反应器中优选停留时间为2～10分钟。

8.根据权利要求1所述的低级烷烃芳构化反应-再生体系构建的工艺，其特征在于，催化剂在再生反应器和芳构化反应器中停留时间比例为2:1～20:1，催化剂在再生反应器和芳构化反应器中优选停留时间比例为5:1～15:1。

9.根据权利要求1所述的低级烷烃芳构化反应-再生体系构建的工艺，其特征在于，无氧芳构化反应原料在芳构化反应器中的线速度为3～20cm/s。

10.根据权利要求9所述的低级烷烃芳构化反应-再生体系构建的工艺，其特征在于，无氧芳构化反应原料在芳构化反应器中的优选线速度为6～9cm/s。