[发明专利]一种制备石墨烯‑SiO2增透薄膜的方法

权利要求书

1.一种制备石墨烯-SiO₂增透薄膜的方法，其特征在于，包括如下步骤：

(1)准确称取一定量石墨烯，将其分散于去离子水或乙醇中，搅拌、超声使石墨烯均匀分散，配制成0.5～1mg/mL石墨烯分散液；

所述的石墨烯为氧化石墨烯或还原氧化石墨烯；

(2)将步骤(1)制得的石墨烯分散液0.1～0.5mL加入100mL硅溶胶中，充分搅拌并采用超声分散，制得镀膜所用石墨烯-硅溶胶；

所述的硅溶胶为纳米级的二氧化硅颗粒在水中或溶剂中的分散液；

(3)采用H₂O₂溶液和氨水配制玻璃表面处理溶液，将镀膜用的玻璃片先在其中浸泡0.5～6h，取出后用去离子水清洗，作为镀膜基底；

(4)采用浸渍提拉法将步骤(3)处理后的玻璃片以6cm/min～10cm/min的速度放入步骤(2)制得的溶胶中，以25cm/min～35cm/min的速度向上提拉出溶胶，在玻璃表面均匀镀膜；

(5)将步骤(4)制得的镀膜玻璃立即置于600℃～800℃的马弗炉中退火1～5min，取出冷却至室温。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，步骤(3)所述的玻璃表面处理液是体积比为1:1:3～8的25％的氨水、30％的H₂O₂和水配制而成的混合液。