[发明专利]一种氮化硼衬底表面台阶刻蚀方法

权利要求书

1.一种氮化硼衬底表面台阶刻蚀方法，其特征在于，包括如下步骤：

S1：提供一六角氮化硼衬底；

S2：在所述六角氮化硼衬底表面形成掩膜层，并在所述掩膜层中形成暴露出所述六角氮化硼衬底表面的预设刻蚀图形；

S3：在所述掩膜层表面及所述预设刻蚀图形内沉积金属层；

S4：剥离所述掩膜层及其表面的金属层；

S5：对所述六角氮化硼衬底进行退火，然后去除所述预设刻蚀图形内的金属层，在所述六角氮化硼衬底表面得到单层氮化硼原子厚度的台阶。

2.根据权利要求1所述的氮化硼衬底表面台阶刻蚀方法，其特征在于：所述掩膜层包括光刻胶或硬性掩膜版。

3.根据权利要求2所述的氮化硼衬底表面台阶刻蚀方法，其特征在于：在所述掩膜层中形成所述预设刻蚀图形的过程中，采用紫外曝光法、电子束曝光法、X射线曝光法、离子束曝光法或纳米压印法在所述掩膜层中形成所述预设刻蚀图形的光刻图形。

4.根据权利要求1所述的氮化硼衬底表面台阶刻蚀方法，其特征在于：所述金属层为单质金属Ni、Al、Zn、Mg、Fe、Sn、Pb或Co，或所述金属层为所述单质金属的合金。

5.根据权利要求1所述的氮化硼衬底表面台阶刻蚀方法，其特征在于：所述金属层的厚度为2～100nm。

6.根据权利要求1所述的氮化硼衬底表面台阶刻蚀方法，其特征在于：沉积所述金属层的方法为电子束蒸发法、溅射法、离子辅助沉积法或脉冲激光沉积法。

7.根据权利要求1所述的氮化硼衬底表面台阶刻蚀方法，其特征在于：所述退火的气氛为Ar/H₂混合气体，气体流量比为200:100～200:20，退火温度范围是200～1000℃，退火时间为2～8小时。

8.根据权利要求1所述的氮化硼衬底表面台阶刻蚀方法，其特征在于：采用湿法腐蚀去除所述预设刻蚀图形内的金属层。

9.根据权利要求8所述的氮化硼衬底表面台阶刻蚀方法，其特征在于：所述湿法腐蚀采用HCl、(NH4)₂S₂O₈、HNO₃、H₂SO₄或乙酸溶液。

10.根据权利要求9所述的氮化硼衬底表面台阶刻蚀方法，其特征在于：所述溶液的浓度为0.01～0.2mol/L，湿法腐蚀浸泡时间为1min～10hour。

11.根据权利要求1所述的氮化硼衬底表面台阶刻蚀方法，其特征在于：所述六角氮化硼衬底采用机械剥离或化学气相沉积法得到。

12.根据权利要求1～11任意一项所述的氮化硼衬底表面台阶刻蚀方法，其特征在于：于所述步骤S5之后，重复所述步骤S2～S5至少一次，在所述氮化硼衬底表面得到预设厚度的台阶。