[发明专利]信号线屏蔽结构有效
申请号: | 201510309139.9 | 申请日: | 2015-06-07 |
公开(公告)号: | CN104900632B | 公开(公告)日: | 2019-03-08 |
发明(设计)人: | 曹云;于明 | 申请(专利权)人: | 上海华虹宏力半导体制造有限公司 |
主分类号: | H01L23/58 | 分类号: | H01L23/58 |
代理公司: | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 屈蘅 |
地址: | 201203 上海市浦东*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 信号线 屏蔽 结构 | ||
1.一种信号线屏蔽结构,用于对信号线进行屏蔽,包括:
间隔位于所述信号线同层两侧的第一屏蔽线、第二屏蔽线,间隔位于所述信号线上层的第三屏蔽线及位于所述信号线下层的第四屏蔽线,所述第三屏蔽线和第四屏蔽线接地,所述第一屏蔽线和所述第二屏蔽线皆包括多个相间隔的金属条,每个金属条皆与第三屏蔽线和第四屏蔽线相连接,还包括第一辅助线和第二辅助线,所述第一辅助线和第二辅助线与所述信号线位于同一层,用于提供一干扰电压。
2.如权利要求1所述的信号线屏蔽结构,其特征在于,每个所述金属条通过插塞与第三屏蔽线和第四屏蔽线相连接。
3.如权利要求1所述的信号线屏蔽结构,其特征在于,所述金属条大于0.2μm见方。
4.如权利要求3所述的信号线屏蔽结构,其特征在于,所述金属条之间的间隔大于等于0.21μm。
5.如权利要求1所述的信号线屏蔽结构,其特征在于,所述第一屏蔽线距离信号线的间距大于等于0.21μm,所述第二屏蔽线距离信号线的间距大于等于0.21μm。
6.如权利要求1所述的信号线屏蔽结构,其特征在于,所述第一屏蔽线与第二屏蔽线以信号线为轴对称。
7.如权利要求1所述的信号线屏蔽结构,其特征在于,所述第一辅助线位于第一屏蔽线远离信号线的一侧,所述第二辅助线位于第二屏蔽线远离信号线的一侧。
8.如权利要求7所述的信号线屏蔽结构,其特征在于,所述第一辅助线距离第一屏蔽线的间距大于等于0.21μm,所述第二辅助线距离第二屏蔽线的间距大于等于0.21μm。
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