[发明专利]基于耦合腔的单模高速调制法布里‑珀罗半导体激光器有效
申请号: | 201510309493.1 | 申请日: | 2015-06-08 |
公开(公告)号: | CN104868359B | 公开(公告)日: | 2018-03-23 |
发明(设计)人: | 马秀雯;杨跃德;肖金龙;刘博文;邹灵秀;龙衡;黄永箴 | 申请(专利权)人: | 中国科学院半导体研究所 |
主分类号: | H01S5/10 | 分类号: | H01S5/10;H01S5/14;H01S5/06 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司11021 | 代理人: | 任岩 |
地址: | 100083 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 基于 耦合 单模 高速 调制 法布里 半导体激光器 | ||
1.一种基于耦合腔的单模高速调制法布里-珀罗半导体激光器,包括:
一管芯,该管芯为一叠层结构,包括:
一下电极;
一下接触层,其制作在下电极上;
一N型衬底,其制作在下接触层上;
在N型衬底上分为两部分,一是为法布里-珀罗型微腔,二是为回音壁型微腔,该法布里-珀罗型微腔制作在N型衬底上,其一端与N型衬底的一端齐平,该回音壁型微腔制作在N型衬底上,位于法布里-珀罗型微腔的另一端;
该法布里-珀罗型微腔和回音壁型微腔的层叠结构相同,包括:
一N型限制层,其制作在N型衬底上;
一有源层,其制作在N型限制层上;
一P型限制层,其制作在有源层上;
一P型盖层,其制作在P型限制层上;
一上接触层,其制作在P型盖层上;
一上电极,其制作在上接触层上。
2.根据权利要求1所述的基于耦合腔的单模高速调制法布里-珀罗半导体激光器,其中该法布里-珀罗型微腔和回音壁型微腔为直接相连或存在间隙,间隙的距离为0至1.5微米。
3.根据权利要求2所述的基于耦合腔的单模高速调制法布里-珀罗半导体激光器,其中所述该法布里-珀罗型微腔为条状结构,其长度为20微米至1毫米,宽度为0.3微米至10微米。
4.根据权利要求2所述的基于耦合腔的单模高速调制法布里-珀罗半导体激光器,其中所述该回音壁型微腔的形状为圆盘型、圆环形、多边形或椭圆形。
5.根据权利要求4所述的基于耦合腔的单模高速调制法布里- 珀罗半导体激光器,其中回音壁型微腔中心到边缘的半径尺寸为1微米至50微米。
6.根据权利要求1所述的基于耦合腔的单模高速调制法布里- 珀罗半导体激光器,所述有源层的结构为体材料、量子阱、量子线或量子点,采用的材料为III-V族半导体材料。
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