[发明专利]阵列基板及其制作方法、液晶面板及液晶显示装置在审

专利信息
申请号: 201510314353.3 申请日: 2015-06-09
公开(公告)号: CN104865758A 公开(公告)日: 2015-08-26
发明(设计)人: 安杨;代伍坤;彭志龙;刘还平 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方光电科技有限公司
主分类号: G02F1/1343 分类号: G02F1/1343;G02F1/1362;H01L27/12;H01L21/77
代理公司: 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 代理人: 申健
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 阵列 及其 制作方法 液晶面板 液晶 显示装置
【权利要求书】:

1.一种阵列基板,包括衬底基板,其特征在于,在所述衬底基板上依次层叠地设置有源漏金属层和像素电极层;所述源漏金属层包括多个漏极,所述像素电极层包括多个与所述漏极对应的像素电极;对应的所述像素电极与所述漏极相互贴合。

2.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述像素电极覆盖与其对应的所述漏极。

3.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,在所述像素电极层上还设有钝化层,所述钝化层覆盖所述源漏金属层及所述像素电极层的上表面。

4.根据权利要求1-3任一项所述的阵列基板,其特征在于,在所述衬底基板和所述源漏金属层之间,还依次层叠地设置有栅金属层、栅绝缘层和有源层;所述栅金属层包括栅线以及与所述栅线电连接的栅极,所述源漏金属层还包括数据线、与所述数据线电连接的源极、以及位于所述源极和所述漏极之间的沟道。

5.一种如权利要求1-4任一项所述的阵列基板的制作方法,所述阵列基板包括衬底基板,其特征在于,所述阵列基板的制作方法包括:

在衬底基板上形成源漏金属层,通过构图工艺在所述源漏金属层中形成多个漏极;

在所述源漏金属层上形成像素电极层,通过构图工艺在所述像素电极层中形成多个与所述漏极对应的像素电极;其中,对应的所述像素电极与所述漏极相互贴合。

6.一种液晶面板,其特征在于,包括如权利要求1-4任一项所述的阵列基板。

7.一种液晶显示装置,其特征在于,包括权利要求6所述的液晶面板。

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