[发明专利]监视镜位置的方法和微光刻投射曝光设备的照明系统有效

专利信息
申请号: 201510317621.7 申请日: 2008-12-19
公开(公告)号: CN105045045B 公开(公告)日: 2018-10-19
发明(设计)人: 简.霍恩;克里斯琴.肯普特;沃尔夫冈.法洛特-伯格哈特 申请(专利权)人: 卡尔蔡司SMT有限责任公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 邱军
地址: 德国*** 国省代码: 德国;DE
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摘要:
搜索关键词: 监视 位置 方法 微光 投射 曝光 设备 照明 系统
【权利要求书】:

1.监视多镜阵列(22)中的多个镜(24)的镜位置的方法,其包括如下步骤:

a)确定取样速率,以该取样速率通过测量系统(52)测量测量值,从而所述测量值呈现有位于给定规范内的变化;

b)以N倍取样速率和相应增加的变化来取样,其中所述N倍取样速率被选择以不再发生锯齿效应;

c)通过平均来滤选以N倍取样速率呈现的测量值,使得因而所获得的滤选值呈现有所述给定规范内的变化。

2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,在步骤b),根据尼奎斯特定理确定所述N倍取样速率。

3.根据权利要求1或2所述的方法,其特征在于,在步骤c),使用有限脉冲响应滤选器(FIR滤选器)以滤选所述测量值。

4.根据权利要求1或2所述的方法,其特征在于,使用矩形带通滤选器以滤选所述测量值。

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