[发明专利]高能量爆破有效

专利信息
申请号: 201510320123.8 申请日: 2011-04-15
公开(公告)号: CN105043179B 公开(公告)日: 2017-04-12
发明(设计)人: 杰弗里·弗雷德里克·布伦特;塔潘·戈斯瓦米;迈克尔·约翰·诺伊;彼得·达雷-布赖恩 申请(专利权)人: 奥利卡国际私人有限公司
主分类号: F42D1/08 分类号: F42D1/08;E21C41/22;E21C41/30;F42D3/04
代理公司: 北京安信方达知识产权代理有限公司11262 代理人: 高瑜,郑霞
地址: 新加坡*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 高能量 爆破
【权利要求书】:

1.一种在露天开采可回收矿物中爆破岩石的方法,包括:在钻孔、装填和爆破的单一循环中,在爆破区中钻出爆破孔,使用爆炸物装填所述爆破区中的所述爆破孔并且然后点燃所述爆破区中的所述爆破孔中的所述爆炸物,其特征在于:

所述爆破区包括高能量爆破区,在所述高能量爆破区中爆破孔由第一爆炸物部分地装填以提供所述高能量爆破区的具有每立方米高能量层中的未爆破岩石的至少1.75kg爆炸物的单位炸药消耗量的所述高能量层,并且在所述高能量爆破区中那些爆破孔中的至少一些还被第二爆炸物装填以提供所述高能量爆破区的低能量层,所述低能量层具有比所述高能量层的单位炸药消耗量低的单位炸药消耗量且所述高能量层的单位炸药消耗量是所述低能量层的单位炸药消耗量的至少2倍,且所述高能量层在所述低能量层下方;并且其特征在于:

所述爆破区具有外周,所述高能量爆破区通过包括在所述单一循环中被钻孔、装填和爆破的爆破孔的低能量爆破区而与所述外周隔离,所述低能量爆破区中的所述爆破孔被爆炸物装填以提供比所述高能量爆破区的所述高能量层的单位炸药消耗量低的单位炸药消耗量且所述高能量爆破区的所述高能量层的单位炸药消耗量是所述低能量爆破区中的所述爆破孔的单位炸药消耗量的至少2倍。

2.根据权利要求1所述的方法,其中所述低能量层具有每立方米所述低能量层中的未爆破岩石的至多1.5kg第二爆炸物的单位炸药消耗量。

3.根据权利要求1所述的方法,其中所述低能量层在垂直远离所述高能量层的方向上具有至少2m的深度或厚度。

4.根据权利要求1所述的方法,其中所述高能量层具有每立方米所述高能量层中的未爆破岩石的至少2.5kg第一爆炸物的单位炸药消耗量。

5.根据权利要求1所述的方法,其中所述高能量区中的至少那些被第一爆炸物和第二爆炸物两者装填的爆破孔具有被所述第一爆炸物装填的第一直径部分和被所述第二爆炸物装填的第二直径部分,并且其中所述第一直径大于所述第二直径。

6.根据权利要求1所述的方法,其中,与所述第二爆炸物相比,所述第一爆炸物具有更大的密度、更大的每单位质量的爆破能和更大的爆破爆速中的至少一项。

7.根据权利要求1所述的方法,其中所述第一爆炸物与所述第二爆炸物是相同的。

8.根据权利要求1所述的方法,其中在任何一个爆破孔中的所述第一爆炸物和所述第二爆炸物在相同的时间被点燃。

9.根据权利要求8所述的方法,其中在所述任何一个爆破孔中的所述第一爆炸物和所述第二爆炸物的柱是连续的。

10.根据权利要求1所述的方法,其中在所述高能量区中爆破的步骤包括相继地点燃在所述高能量层和所述低能量层中的爆炸物。

11.根据权利要求10所述的方法,其中所述高能量层中的所述第一爆炸物在所述低能量层中的所述第二爆炸物之后被点燃。

12.根据权利要求11所述的方法,其中所述低能量层中的所述第二爆炸物的所述爆破在所述高能量层上产生被爆破的材料的覆层。

13.根据权利要求10所述的方法,其中在所述高能量层和所述低能量层中的一个中待点燃的所述爆炸物的任何负载在点燃所述高能量层和所述低能量层中的另一个中的所述爆炸物的最接近的负载之后至少500ms被点燃。

14.根据权利要求13所述的方法,其中在所述高能量层和所述低能量层中的所述一个中待点燃的所述爆炸物的第一负载在点燃所述高能量层和所述低能量层中的所述另一个中的所述爆炸物的最后的负载之后至少500ms被点燃。

15.根据权利要求1所述的方法,其中所述高能量爆破区中的被第一爆炸物装填的所述爆破孔中的至少一些还被另外的爆炸物装填以提供在所述高能量层与所述高能量爆破区中的所述爆破孔的钻孔口之间的第二低能量层,所述第二低能量层具有比所述高能量层的单位炸药消耗量低的单位炸药消耗量且所述高能量层的单位炸药消耗量是所述第二低能量层的单位炸药消耗量的至少2倍。

16.根据权利要求1所述的方法,其中所述低能量爆破区具有每立方米所述低能量爆破区中的未爆破岩石的至多1.5kg爆炸物的单位炸药消耗量。

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