[发明专利]包含芳基方酸化合物的有机光敏器件及其制造方法在审
申请号: | 201510321457.7 | 申请日: | 2012-02-07 |
公开(公告)号: | CN105037246A | 公开(公告)日: | 2015-11-11 |
发明(设计)人: | 斯蒂芬·R·弗里斯特;马克·E·汤普森;韦国丹;王思轶;林肯·霍尔;维亚切斯拉夫·V·迪夫;肖新 | 申请(专利权)人: | 密歇根大学董事会;南加利福尼亚大学 |
主分类号: | C07D209/86 | 分类号: | C07D209/86;C07D279/22;C07C215/82;C07C215/78;C07C215/44;H01L51/46 |
代理公司: | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人: | 刘慧;杨青 |
地址: | 美国密*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 包含 芳基方 酸化 有机 光敏 器件 及其 制造 方法 | ||
1.式I的方酸化合物:
其中
Y1和Y2独立地选自任选被取代的氨基或任选被取代的芳基。
2.权利要求1的化合物,其中Y1和Y2独立地选自-NR3R4和式II的基团:
其中X在每次出现时独立地选自氢和羟基;
R1和R2独立地选自任选被取代的烃基、任选被取代的芳基和任选被取代的杂芳基,或者
R1和R2与任何居间原子合在一起形成选自任选被取代的杂芳基和任选被取代的杂环基的基团;并且
R3和R4独立地选自任选被取代的烃基、任选被取代的芳基和任选被取代的杂芳基,或者
R3和R4与任何居间原子合在一起形成选自任选被取代的杂芳基和任选被取代的杂环基的基团。
3.权利要求2的化合物,其中所述任选被取代的杂芳基和所述任选被取代的杂环基独立地选自单环基团和多环基团。
4.权利要求3的化合物,其中所述多环基团包含两个或更多个稠环。
5.权利要求2的化合物,其中
R3和R4中的至少一个是芳基;
Y1和Y2中的至少一个是式II的基团;并且
R1和R2与任何居间原子合在一起形成选自任选被取代的杂芳基和任选被取代的杂环基的基团。
6.权利要求2的化合物,其中所述式II的基团选自式III的基团:
其中
W选自S、O、Se和Te;
n是选自0和1的整数;并且
R5和R6独立地选自任选被取代的氨基、氰基、卤素、巯基、任选被取代的烯基、任选被取代的炔基、任选被取代的烃基、任选被取代的芳基和任选被取代的杂芳基、任选被取代的杂环基和任选被取代的碳环基,或者
连接至相邻原子的R5和R6与任何居间原子合在一起形成选自任选被取代的芳基、任选被取代的杂芳基、任选被取代的碳环基和任选被取代的杂环基的基团。
7.权利要求2的化合物,其中
Y1是-NR3R4;并且
Y2是并且至少一个X是羟基。
8.权利要求1的化合物,其中:
Y1是-NR3R4;
Y2是任选被取代的芳基;并且
R3和R4独立地选自任选被取代的烃基、任选被取代的芳基和任选被取代的杂芳基,或者
R3和R4与任何居间原子合在一起形成选自任选被取代的杂芳基和任选被取代的杂环基的基团。
9.权利要求1的化合物,其中
Y1是任选被取代的芳基;
Y2是
X在每次出现时独立地选自氢和羟基;并且
R1和R2独立地选自任选被取代的烃基、任选被取代的芳基和任选被取代的杂芳基,或者
R1和R2与任何居间原子合在一起形成选自任选被取代的杂芳基和任选被取代的杂环基的基团。
10.权利要求1的化合物,其中所述化合物是无定形的。
11.权利要求1的化合物,其中所述化合物是不对称的。
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